CAJ | 학술논문

采用x射线小角散射(SAXS)技术研究了由射频等离子体增强化学气相沉积(rf-PECVD)、热丝化学气相沉积(HWCVD)和等离子体助热丝化学气相沉积(PE-HWCVD)技术制备的微晶硅(μc-Si:H)薄膜的微结构.实验发现,在相同晶态比的情况下,PECVD沉积的μc-Si:H薄膜微空洞体积比小,结构较致密,HWCVD沉积的μ-Si:H薄膜微空洞体积比大,结构较为疏松,PE-HWCVD沉积的μc-Si:H薄膜,由于等离子体的敲打作用,与HWCVD样品相比,微结构得到明显改善.采用HWCVD二步法和PE-HWCVD加适量Ar离子分别沉积μc-Si:H薄膜,实验表明,微结构参数得到了进一步改善.45°倾角的SAXS测量显示,不同方法制备的μc-Si:H薄膜中微空洞分布都呈各向异性.红外光谱测量也证实了SAXS的结果.
채용x사선소각산사(SAXS)기술연구료유사빈등리자체증강화학기상침적(rf-PECVD)、열사화학기상침적(HWCVD)화등리자체조열사화학기상침적(PE-HWCVD)기술제비적미정규(μc-Si:H)박막적미결구.실험발현,재상동정태비적정황하,PECVD침적적μc-Si:H박막미공동체적비소,결구교치밀,HWCVD침적적μ-Si:H박막미공동체적비대,결구교위소송,PE-HWCVD침적적μc-Si:H박막,유우등리자체적고타작용,여HWCVD양품상비,미결구득도명현개선.채용HWCVD이보법화PE-HWCVD가괄량Ar리자분별침적μc-Si:H박막,실험표명,미결구삼수득도료진일보개선.45°경각적SAXS측량현시,불동방법제비적μc-Si:H박막중미공동분포도정각향이성.홍외광보측량야증실료SAXS적결과.