仪表技术与传感器
儀錶技術與傳感器
의표기술여전감기
INSTRUMENT TECHNIQUE AND SENSOR
2000年
9期
15-16
,共2页
InSb薄膜%热处理%工艺
InSb薄膜%熱處理%工藝
InSb박막%열처리%공예
InSb Thin film%Annealing%Technique
文中从理论和实验分析了热处理条件对溅射法制得的InSb薄膜特性的影响。热处理温度、时间和升降温速率都对薄膜特性有影响，通过实验得出了最佳的热处理温度、恒温时间和升降温速率。最后讨论了热处理过程中所采用的3种保护膜。
文中從理論和實驗分析瞭熱處理條件對濺射法製得的InSb薄膜特性的影響。熱處理溫度、時間和升降溫速率都對薄膜特性有影響，通過實驗得齣瞭最佳的熱處理溫度、恆溫時間和升降溫速率。最後討論瞭熱處理過程中所採用的3種保護膜。
문중종이론화실험분석료열처리조건대천사법제득적InSb박막특성적영향。열처리온도、시간화승강온속솔도대박막특성유영향，통과실험득출료최가적열처리온도、항온시간화승강온속솔。최후토론료열처리과정중소채용적3충보호막。
Annealing effect of sputtered InSb thin films is described in the paper. InSb thin films properties are affected by thermostatic temperature, time and the rate of heating - up and cooling. By experiments the best temperature, time and the rate of heating-up and cooling are given. At last 3 protecting films on the InSb used in annealing are discussed.
