张世纬 張世緯
장세위
2009년 重点工作实现新突破 重點工作實現新突破 중점공작실현신돌파
2003년 在集成电路量产中减少氧化膜CMP(化学机械研磨)的缺陷 在集成電路量產中減少氧化膜CMP(化學機械研磨)的缺陷 재집성전로양산중감소양화막CMP(화학궤계연마)적결함