退火处理对脉冲激光沉积制备ZnS薄膜的影响
퇴화처리대맥충격광침적제비ZnS박막적영향
Influence of annealing on ZnS thin films by PLD
  • 万方数据
    武汉工业学院学报 무한공업학원학보
    JOURNAL OF WUHAN POLYTECHNIC UNIVERSITY
    2008年 4期 113-115 ,共3页

    纠智先%李强%孙金战

    규지선%리강%손금전

    脉冲激光沉积%ZnS薄膜%退火 脈遲激光沉積%ZnS薄膜%退火
    맥충격광침적%ZnS박막%퇴화
    利用射频辅助脉冲激光沉积技术,研究了退火处理对制备ZnS薄膜的影响.利用X射线衍射(XRD)和扫描电子显微镜(SEM)对制备样品的结构、形貌特性进行了表征.结果表明:退火处理更有利于ZnS薄膜的发光.
    이용사빈보조맥충격광침적기술,연구료퇴화처리대제비ZnS박막적영향.이용X사선연사(XRD)화소묘전자현미경(SEM)대제비양품적결구、형모특성진행료표정.결과표명:퇴화처리경유리우ZnS박막적발광.
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