稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2007年
12期
2228-2231
,共4页
刘晓磊%何建平%周建华%党王娟
劉曉磊%何建平%週建華%黨王娟
류효뢰%하건평%주건화%당왕연
氧化铝模板%铜纳米线%单晶%孪晶
氧化鋁模闆%銅納米線%單晶%孿晶
양화려모판%동납미선%단정%련정
用恒电位电化学沉积法,尝试在氧化铝模板纳米孔内制备超长铜纳米线.透射电子显微镜(TEM)和扫描电子显微镜(SEM)分析结果表明:在较低的沉积电位下,纳米线表面较为光滑且呈现条纹结构,直径均匀,大约100 nm,线长可达40～50μm,放置一段时间后离解成颗粒状;较高沉积电位下,纳米线的边缘粗糙不平,主要由晶粒连接而成,晶粒之间有空隙存在.金属纳米线的生长实际上是金属颗粒的堆积过程,金属原子之间无较强的化学键存在.由x射线衍射(XRD)、高分辨透射电子显微镜(HRTEM)分析得知,低电位下所得纳米线为单晶结构,沿[111]方向生长,而高电位下则出现了孪晶结构.
用恆電位電化學沉積法,嘗試在氧化鋁模闆納米孔內製備超長銅納米線.透射電子顯微鏡(TEM)和掃描電子顯微鏡(SEM)分析結果錶明:在較低的沉積電位下,納米線錶麵較為光滑且呈現條紋結構,直徑均勻,大約100 nm,線長可達40～50μm,放置一段時間後離解成顆粒狀;較高沉積電位下,納米線的邊緣粗糙不平,主要由晶粒連接而成,晶粒之間有空隙存在.金屬納米線的生長實際上是金屬顆粒的堆積過程,金屬原子之間無較彊的化學鍵存在.由x射線衍射(XRD)、高分辨透射電子顯微鏡(HRTEM)分析得知,低電位下所得納米線為單晶結構,沿[111]方嚮生長,而高電位下則齣現瞭孿晶結構.
용항전위전화학침적법,상시재양화려모판납미공내제비초장동납미선.투사전자현미경(TEM)화소묘전자현미경(SEM)분석결과표명:재교저적침적전위하,납미선표면교위광활차정현조문결구,직경균균,대약100 nm,선장가체40～50μm,방치일단시간후리해성과립상;교고침적전위하,납미선적변연조조불평,주요유정립련접이성,정립지간유공극존재.금속납미선적생장실제상시금속과립적퇴적과정,금속원자지간무교강적화학건존재.유x사선연사(XRD)、고분변투사전자현미경(HRTEM)분석득지,저전위하소득납미선위단정결구,연[111]방향생장,이고전위하칙출현료련정결구.
