原子能科学技术
原子能科學技術
원자능과학기술
ATOMIC ENERGY SCIENCE AND TECHNOLOGY
2002年
4期
331-334
,共4页
李小丽%沈军%李佛生%周斌%王珏
李小麗%瀋軍%李彿生%週斌%王玨
리소려%침군%리불생%주빈%왕각
激光损伤阈值%光栅%ZrO2薄膜
激光損傷閾值%光柵%ZrO2薄膜
격광손상역치%광책%ZrO2박막
为惯性约束聚变(ICF)实验中利用光栅分光特性间接探测激光功率研究,制备具有高激光损伤阈值的光栅分光ZrO2薄膜.采用水热法制备纳米ZrO2溶胶,在80～100 ℃下,以20 m/min速度涂敷制备出厚1～2 μm、折射率为1.57～1.70、表面粗糙度2.3 nm、激光损伤阈值为25～30 J/cm2(1 ns,1.06 μm)的ZrO2薄膜.采用Ar+激光器双光束干涉曝光技术制备光栅掩膜板,光栅周期为1～2 μm,深度70～100 nm.通过电镀工艺将光栅结构转移至镍板上,经连续模压,最终制备出光栅分光ZrO2薄膜.分析了光栅周期、模压深度及薄膜折射率等因素对光栅一级衍射效率的影响.制备出的光栅分光ZrO2薄膜有望用于高功率激光测量.
為慣性約束聚變(ICF)實驗中利用光柵分光特性間接探測激光功率研究,製備具有高激光損傷閾值的光柵分光ZrO2薄膜.採用水熱法製備納米ZrO2溶膠,在80～100 ℃下,以20 m/min速度塗敷製備齣厚1～2 μm、摺射率為1.57～1.70、錶麵粗糙度2.3 nm、激光損傷閾值為25～30 J/cm2(1 ns,1.06 μm)的ZrO2薄膜.採用Ar+激光器雙光束榦涉曝光技術製備光柵掩膜闆,光柵週期為1～2 μm,深度70～100 nm.通過電鍍工藝將光柵結構轉移至鎳闆上,經連續模壓,最終製備齣光柵分光ZrO2薄膜.分析瞭光柵週期、模壓深度及薄膜摺射率等因素對光柵一級衍射效率的影響.製備齣的光柵分光ZrO2薄膜有望用于高功率激光測量.
위관성약속취변(ICF)실험중이용광책분광특성간접탐측격광공솔연구,제비구유고격광손상역치적광책분광ZrO2박막.채용수열법제비납미ZrO2용효,재80～100 ℃하,이20 m/min속도도부제비출후1～2 μm、절사솔위1.57～1.70、표면조조도2.3 nm、격광손상역치위25～30 J/cm2(1 ns,1.06 μm)적ZrO2박막.채용Ar+격광기쌍광속간섭폭광기술제비광책엄막판,광책주기위1～2 μm,심도70～100 nm.통과전도공예장광책결구전이지얼판상,경련속모압,최종제비출광책분광ZrO2박막.분석료광책주기、모압심도급박막절사솔등인소대광책일급연사효솔적영향.제비출적광책분광ZrO2박막유망용우고공솔격광측량.
