武汉理工大学学报
武漢理工大學學報
무한리공대학학보
JOURNAL OF WUHAN UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2005年
1期
10-13
,共4页
许丕池%余海湖%何方方%卢忠远%康明
許丕池%餘海湖%何方方%盧忠遠%康明
허비지%여해호%하방방%로충원%강명
SiO2%静电自组装%热处理%增透膜
SiO2%靜電自組裝%熱處理%增透膜
SiO2%정전자조장%열처리%증투막
以正硅酸乙酯(Ethyl Silicate,TEOS)为原料,乙醇为溶剂,NH3·H2O为催化剂,制备了胶粒带负电荷的SiO2溶胶.在低折射率(1.45)的玻璃基片上用静电自组装(Electrostatic Self-assembly Multiplayer,ESAM)法制备了带正电荷的聚电解质聚二烯丙基二甲基氯化铵PDDA与SiO2的有机/无机复合层状薄膜.然后对其进行热处理,研究了不同温度热处理对薄膜结构、组成、折射率、机械强度、激光损伤阈值以及光学性能的影响.得到了经520℃热处理后折射率为1.27、激光损伤阈值为68 J/cm2、520 nn处的透光率为99.0%、抗机械损伤强度大的SiO2光学增透薄膜.但最大的透光率是400℃热处理后520 nm处的透光率为99.2%.
以正硅痠乙酯(Ethyl Silicate,TEOS)為原料,乙醇為溶劑,NH3·H2O為催化劑,製備瞭膠粒帶負電荷的SiO2溶膠.在低摺射率(1.45)的玻璃基片上用靜電自組裝(Electrostatic Self-assembly Multiplayer,ESAM)法製備瞭帶正電荷的聚電解質聚二烯丙基二甲基氯化銨PDDA與SiO2的有機/無機複閤層狀薄膜.然後對其進行熱處理,研究瞭不同溫度熱處理對薄膜結構、組成、摺射率、機械彊度、激光損傷閾值以及光學性能的影響.得到瞭經520℃熱處理後摺射率為1.27、激光損傷閾值為68 J/cm2、520 nn處的透光率為99.0%、抗機械損傷彊度大的SiO2光學增透薄膜.但最大的透光率是400℃熱處理後520 nm處的透光率為99.2%.
이정규산을지(Ethyl Silicate,TEOS)위원료,을순위용제,NH3·H2O위최화제,제비료효립대부전하적SiO2용효.재저절사솔(1.45)적파리기편상용정전자조장(Electrostatic Self-assembly Multiplayer,ESAM)법제비료대정전하적취전해질취이희병기이갑기록화안PDDA여SiO2적유궤/무궤복합층상박막.연후대기진행열처리,연구료불동온도열처리대박막결구、조성、절사솔、궤계강도、격광손상역치이급광학성능적영향.득도료경520℃열처리후절사솔위1.27、격광손상역치위68 J/cm2、520 nn처적투광솔위99.0%、항궤계손상강도대적SiO2광학증투박막.단최대적투광솔시400℃열처리후520 nm처적투광솔위99.2%.
