现代电子技术
現代電子技術
현대전자기술
MODERN ELECTRONICS TECHNIQUE
2012年
20期
143-145
,共3页
纳米碳涂层%电泳沉积%薄膜%二次电子发射%SEY
納米碳塗層%電泳沉積%薄膜%二次電子髮射%SEY
납미탄도층%전영침적%박막%이차전자발사%SEY
采用电泳沉积制备薄膜的方法,在铝合金镀银片上均匀的涂覆纳米碳涂层,研究了不同的电泳电压及电泳时间对涂层形貌结构的影响.扫描电子显微镜(SEM)、二次电子发射系数(SEY)测试结果表明,保持阴阳极间距为1 cm,在30 V的直流电压下电泳15 min所获得的样片涂层均匀、连续、致密且具有明显的陷阱结构.实验表明,其SEY最大值σmax达到2.03,对应的入射能量为500 eV,E1能量点在60 eV.使用Ar离子轰击清洗表面10 min后,样片的SEY最大值σmax达到1.76,对应的入射能量Emax为400 eV,E1能重点在80 eV.
採用電泳沉積製備薄膜的方法,在鋁閤金鍍銀片上均勻的塗覆納米碳塗層,研究瞭不同的電泳電壓及電泳時間對塗層形貌結構的影響.掃描電子顯微鏡(SEM)、二次電子髮射繫數(SEY)測試結果錶明,保持陰暘極間距為1 cm,在30 V的直流電壓下電泳15 min所穫得的樣片塗層均勻、連續、緻密且具有明顯的陷阱結構.實驗錶明,其SEY最大值σmax達到2.03,對應的入射能量為500 eV,E1能量點在60 eV.使用Ar離子轟擊清洗錶麵10 min後,樣片的SEY最大值σmax達到1.76,對應的入射能量Emax為400 eV,E1能重點在80 eV.
채용전영침적제비박막적방법,재려합금도은편상균균적도복납미탄도층,연구료불동적전영전압급전영시간대도층형모결구적영향.소묘전자현미경(SEM)、이차전자발사계수(SEY)측시결과표명,보지음양겁간거위1 cm,재30 V적직류전압하전영15 min소획득적양편도층균균、련속、치밀차구유명현적함정결구.실험표명,기SEY최대치σmax체도2.03,대응적입사능량위500 eV,E1능량점재60 eV.사용Ar리자굉격청세표면10 min후,양편적SEY최대치σmax체도1.76,대응적입사능량Emax위400 eV,E1능중점재80 eV.
