稀有金属材料与工程
稀有金屬材料與工程
희유금속재료여공정
RARE METAL MATERIALS AND ENGINEERNG
2005年
11期
1778-1781
,共4页
徐建华%马大衍%马胜利%徐可为
徐建華%馬大衍%馬勝利%徐可為
서건화%마대연%마성리%서가위
等离子体增强化学气相沉积(PCVD)%Ti-Si-N薄膜%微观结构,高温热稳定性
等離子體增彊化學氣相沉積(PCVD)%Ti-Si-N薄膜%微觀結構,高溫熱穩定性
등리자체증강화학기상침적(PCVD)%Ti-Si-N박막%미관결구,고온열은정성
用脉冲直流等离子体增强化学气相沉积(PCVD)方法在高速钢(HSS)基体上制备了Ti-Si-N薄膜,重点从不同温度退火后薄膜相结构、晶粒尺寸和显微硬度的变化等方面,探讨了不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的高温热稳定性.结果表明:Ti-Si-N薄膜在900℃以内退火处理后,晶粒尺寸和显微硬度并无明显突变,尤其是Si含量较低时,在800℃,晶粒尺寸和显微硬度几乎没有变化,表明Ti-Si-N薄膜具有非常良好的高温热稳定性,这可能与薄膜相形成在高温下仍为调幅分解有关.
用脈遲直流等離子體增彊化學氣相沉積(PCVD)方法在高速鋼(HSS)基體上製備瞭Ti-Si-N薄膜,重點從不同溫度退火後薄膜相結構、晶粒呎吋和顯微硬度的變化等方麵,探討瞭不同Si含量的Ti-Si-N薄膜的高溫熱穩定性.結果錶明:Ti-Si-N薄膜在900℃以內退火處理後,晶粒呎吋和顯微硬度併無明顯突變,尤其是Si含量較低時,在800℃,晶粒呎吋和顯微硬度幾乎沒有變化,錶明Ti-Si-N薄膜具有非常良好的高溫熱穩定性,這可能與薄膜相形成在高溫下仍為調幅分解有關.
용맥충직류등리자체증강화학기상침적(PCVD)방법재고속강(HSS)기체상제비료Ti-Si-N박막,중점종불동온도퇴화후박막상결구、정립척촌화현미경도적변화등방면,탐토료불동Si함량적Ti-Si-N박막적고온열은정성.결과표명:Ti-Si-N박막재900℃이내퇴화처리후,정립척촌화현미경도병무명현돌변,우기시Si함량교저시,재800℃,정립척촌화현미경도궤호몰유변화,표명Ti-Si-N박막구유비상량호적고온열은정성,저가능여박막상형성재고온하잉위조폭분해유관.
