真空电子技术
真空電子技術
진공전자기술
VACUUM ELECTRONICS
2006年
1期
15-17,29
,共4页
陈静%杨夏喜%雷威%张晓兵
陳靜%楊夏喜%雷威%張曉兵
진정%양하희%뢰위%장효병
光刻%碳纳米管场致发射显示器件%ITO
光刻%碳納米管場緻髮射顯示器件%ITO
광각%탄납미관장치발사현시기건%ITO
在碳纳米管场致发射显示器件结构中,需要采用光刻的方法制备各种不同的ITO图案和电极图案.本文着重介绍了ITO玻璃的表面处理和光刻过程.实验中采用在紫外曝光条件下,对光刻工艺中影响其刻蚀结果分辨率的各种因素做出了系统分析.这些因素主要包括了对于感光胶的选择,玻璃表面的清洁度,丝网印刷工艺的操作,紫外光曝光时间的控制,酸腐蚀浓度.通过优化实验工艺,得到满足精度要求的精细条纹,得出最佳的光刻条件.
在碳納米管場緻髮射顯示器件結構中,需要採用光刻的方法製備各種不同的ITO圖案和電極圖案.本文著重介紹瞭ITO玻璃的錶麵處理和光刻過程.實驗中採用在紫外曝光條件下,對光刻工藝中影響其刻蝕結果分辨率的各種因素做齣瞭繫統分析.這些因素主要包括瞭對于感光膠的選擇,玻璃錶麵的清潔度,絲網印刷工藝的操作,紫外光曝光時間的控製,痠腐蝕濃度.通過優化實驗工藝,得到滿足精度要求的精細條紋,得齣最佳的光刻條件.
재탄납미관장치발사현시기건결구중,수요채용광각적방법제비각충불동적ITO도안화전겁도안.본문착중개소료ITO파리적표면처리화광각과정.실험중채용재자외폭광조건하,대광각공예중영향기각식결과분변솔적각충인소주출료계통분석.저사인소주요포괄료대우감광효적선택,파리표면적청길도,사망인쇄공예적조작,자외광폭광시간적공제,산부식농도.통과우화실험공예,득도만족정도요구적정세조문,득출최가적광각조건.
