光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2005年
4期
567-571
,共5页
朱勇%顾培夫%沈伟东%邹桐
硃勇%顧培伕%瀋偉東%鄒桐
주용%고배부%침위동%추동
薄膜光学%SiOxNy薄膜%磁控溅射%光学常数%禁带宽度
薄膜光學%SiOxNy薄膜%磁控濺射%光學常數%禁帶寬度
박막광학%SiOxNy박막%자공천사%광학상수%금대관도
利用SiOxNy薄膜光学常数随化学计量比连续变化的特性,给出了制备折射率连续可调的SiOxNy薄膜的实验条件.用磁控反应溅射法制备了不同氮氧比的SiOxNy薄膜.研究了不同气流比率条件下薄膜光学常数、化学成分及溅射速率等的变化.用UV-VIS光谱仪测试了透射率曲线,利用改进的单纯型法拟合透射率曲线计算得到了折射率和消光系数.测试了红外傅立叶光谱(FTIR)曲线和X光光电子能谱(XPS)分析了薄膜成分的变化.实验表明薄膜特性与N2/O2流量比率密切相关,通过控制总压和改变气体流量比可控制SiOxNy薄膜的折射率n从1.92到1.46连续变化,应用Wemple-DiDomenico模型计算出光子带隙在6.5 eV到5 eV之间单调变化.
利用SiOxNy薄膜光學常數隨化學計量比連續變化的特性,給齣瞭製備摺射率連續可調的SiOxNy薄膜的實驗條件.用磁控反應濺射法製備瞭不同氮氧比的SiOxNy薄膜.研究瞭不同氣流比率條件下薄膜光學常數、化學成分及濺射速率等的變化.用UV-VIS光譜儀測試瞭透射率麯線,利用改進的單純型法擬閤透射率麯線計算得到瞭摺射率和消光繫數.測試瞭紅外傅立葉光譜(FTIR)麯線和X光光電子能譜(XPS)分析瞭薄膜成分的變化.實驗錶明薄膜特性與N2/O2流量比率密切相關,通過控製總壓和改變氣體流量比可控製SiOxNy薄膜的摺射率n從1.92到1.46連續變化,應用Wemple-DiDomenico模型計算齣光子帶隙在6.5 eV到5 eV之間單調變化.
이용SiOxNy박막광학상수수화학계량비련속변화적특성,급출료제비절사솔련속가조적SiOxNy박막적실험조건.용자공반응천사법제비료불동담양비적SiOxNy박막.연구료불동기류비솔조건하박막광학상수、화학성분급천사속솔등적변화.용UV-VIS광보의측시료투사솔곡선,이용개진적단순형법의합투사솔곡선계산득도료절사솔화소광계수.측시료홍외부립협광보(FTIR)곡선화X광광전자능보(XPS)분석료박막성분적변화.실험표명박막특성여N2/O2류량비솔밀절상관,통과공제총압화개변기체류량비가공제SiOxNy박막적절사솔n종1.92도1.46련속변화,응용Wemple-DiDomenico모형계산출광자대극재6.5 eV도5 eV지간단조변화.