南京大学学报(自然科学版)
南京大學學報(自然科學版)
남경대학학보(자연과학판)
JOURNAL OF NANJING UNIVERSITY
2003年
4期
532-539
,共8页
刘天柱%Kiyotaka Wawa%张淑仪%水修基%陈培狄%宋凤麒%王广厚
劉天柱%Kiyotaka Wawa%張淑儀%水脩基%陳培狄%宋鳳麒%王廣厚
류천주%Kiyotaka Wawa%장숙의%수수기%진배적%송봉기%왕엄후
ZnO%薄膜%粉靶%溅射
ZnO%薄膜%粉靶%濺射
ZnO%박막%분파%천사
氧化锌是一种重要的压电与光电材料.用粉靶代替常规的固体陶瓷靶溅射沉积ZnO薄膜,对基底的加热温度、溅射气压和氧气的混合比率等沉积条件对氧化锌薄膜特性的影响进行了研究.主要对沉积在玻璃基片上的ZnO薄膜进行了X-射线衍射(XRD)、扫描电镜(SEM)、原子力显微镜(AFM)以及台阶仪的测量和分析比较.用粉靶溅射的ZnO薄膜具有很好的C轴长相和很窄的衍射峰半宽(0.2°～0.27°).因为ZnO薄膜在C轴方向有很强的压电性,从而也说明了用粉靶溅射的ZnO薄膜具有很好的压电特性.分析和测量结果显示用粉靶溅射ZnO薄膜的最佳条件是:(1)基片加热温度为300～400℃.(2)氧气的混合含量为0.5～0.8.(3)溅射气压为1～2 Pa.得出了利用粉靶溅射制备的ZnO薄膜与用陶瓷靶制备同样具有很好的性能.
氧化鋅是一種重要的壓電與光電材料.用粉靶代替常規的固體陶瓷靶濺射沉積ZnO薄膜,對基底的加熱溫度、濺射氣壓和氧氣的混閤比率等沉積條件對氧化鋅薄膜特性的影響進行瞭研究.主要對沉積在玻璃基片上的ZnO薄膜進行瞭X-射線衍射(XRD)、掃描電鏡(SEM)、原子力顯微鏡(AFM)以及檯階儀的測量和分析比較.用粉靶濺射的ZnO薄膜具有很好的C軸長相和很窄的衍射峰半寬(0.2°～0.27°).因為ZnO薄膜在C軸方嚮有很彊的壓電性,從而也說明瞭用粉靶濺射的ZnO薄膜具有很好的壓電特性.分析和測量結果顯示用粉靶濺射ZnO薄膜的最佳條件是:(1)基片加熱溫度為300～400℃.(2)氧氣的混閤含量為0.5～0.8.(3)濺射氣壓為1～2 Pa.得齣瞭利用粉靶濺射製備的ZnO薄膜與用陶瓷靶製備同樣具有很好的性能.
양화자시일충중요적압전여광전재료.용분파대체상규적고체도자파천사침적ZnO박막,대기저적가열온도、천사기압화양기적혼합비솔등침적조건대양화자박막특성적영향진행료연구.주요대침적재파리기편상적ZnO박막진행료X-사선연사(XRD)、소묘전경(SEM)、원자력현미경(AFM)이급태계의적측량화분석비교.용분파천사적ZnO박막구유흔호적C축장상화흔착적연사봉반관(0.2°～0.27°).인위ZnO박막재C축방향유흔강적압전성,종이야설명료용분파천사적ZnO박막구유흔호적압전특성.분석화측량결과현시용분파천사ZnO박막적최가조건시:(1)기편가열온도위300～400℃.(2)양기적혼합함량위0.5～0.8.(3)천사기압위1～2 Pa.득출료이용분파천사제비적ZnO박막여용도자파제비동양구유흔호적성능.
