物理化学学报
物理化學學報
물이화학학보
ACTA PHYSICO-CHIMICA SINICA
2008年
4期
612-618
,共7页
田颖%李浙齐%徐洪峰%吴艳波%杨凤林
田穎%李浙齊%徐洪峰%吳豔波%楊鳳林
전영%리절제%서홍봉%오염파%양봉림
聚吡咯%氧化还原行为%电解质溶液%FT-IR
聚吡咯%氧化還原行為%電解質溶液%FT-IR
취필각%양화환원행위%전해질용액%FT-IR
以对甲基苯磺酸钠(P-TSNa)为掺杂剂在不锈钢电极表面恒电位合成聚吡咯(PPy)修饰膜,采用循环伏安法在-1.6-0.8 V大范围扫描研究了修饰膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH电解质溶液中的氧化还原行为.结果表明,在H2SO4溶液中,以H+的脱出(氧化)/嵌入(还原)为特征,并发现聚吡咯在酸性溶液中所特有的质子还原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na+的脱出(氧化)/嵌入(还原)峰为特征.FT-IR吸收光谱显示,经NaOH处理后,聚吡咯膜的长共轭结构被完全破坏,而经H2SO4和Na2SO4处后,膜的共轭结构未发生变化.
以對甲基苯磺痠鈉(P-TSNa)為摻雜劑在不鏽鋼電極錶麵恆電位閤成聚吡咯(PPy)脩飾膜,採用循環伏安法在-1.6-0.8 V大範圍掃描研究瞭脩飾膜在H2SO4、Na2SO4、NaOH電解質溶液中的氧化還原行為.結果錶明,在H2SO4溶液中,以H+的脫齣(氧化)/嵌入(還原)為特徵,併髮現聚吡咯在痠性溶液中所特有的質子還原峰.在Na2SO4和NaOH溶液中,以Na+的脫齣(氧化)/嵌入(還原)峰為特徵.FT-IR吸收光譜顯示,經NaOH處理後,聚吡咯膜的長共軛結構被完全破壞,而經H2SO4和Na2SO4處後,膜的共軛結構未髮生變化.
이대갑기분광산납(P-TSNa)위참잡제재불수강전겁표면항전위합성취필각(PPy)수식막,채용순배복안법재-1.6-0.8 V대범위소묘연구료수식막재H2SO4、Na2SO4、NaOH전해질용액중적양화환원행위.결과표명,재H2SO4용액중,이H+적탈출(양화)/감입(환원)위특정,병발현취필각재산성용액중소특유적질자환원봉.재Na2SO4화NaOH용액중,이Na+적탈출(양화)/감입(환원)봉위특정.FT-IR흡수광보현시,경NaOH처리후,취필각막적장공액결구피완전파배,이경H2SO4화Na2SO4처후,막적공액결구미발생변화.
