传感技术学报
傳感技術學報
전감기술학보
Journal of Transduction Technology
2011年
2期
200-203
,共4页
刘欢%周震%刘惠兰%冯丽爽%王坤博
劉歡%週震%劉惠蘭%馮麗爽%王坤博
류환%주진%류혜란%풍려상%왕곤박
ICP刻蚀%硅%形貌控制%bowing效应%工艺参数
ICP刻蝕%硅%形貌控製%bowing效應%工藝參數
ICP각식%규%형모공제%bowing효응%공예삼수
硅的刻蚀形貌控制是MEMS器件加工中的关键技术之一,形貌控制是硅表面刻蚀和钝化反应取得平衡的结果,任何影响刻蚀和钝化反应的因素都会影响到刻蚀形貌.采用中科院微电子研发中心研制的基于化学平衡原理的ICP-98A等离子刻蚀机,对ICP刻蚀当中影响形貌的关键工艺参数进行了研究和分析,研究了源功率RF1、射频功率RF2及气体(SF6和C4F8)比例对刻蚀形貌的影响,分析了bowing现象产生机制,并给出了降低这种现象的工艺方法.该研究对提高硅的ICP刻蚀形貌控制具有重要的指导意义.
硅的刻蝕形貌控製是MEMS器件加工中的關鍵技術之一,形貌控製是硅錶麵刻蝕和鈍化反應取得平衡的結果,任何影響刻蝕和鈍化反應的因素都會影響到刻蝕形貌.採用中科院微電子研髮中心研製的基于化學平衡原理的ICP-98A等離子刻蝕機,對ICP刻蝕噹中影響形貌的關鍵工藝參數進行瞭研究和分析,研究瞭源功率RF1、射頻功率RF2及氣體(SF6和C4F8)比例對刻蝕形貌的影響,分析瞭bowing現象產生機製,併給齣瞭降低這種現象的工藝方法.該研究對提高硅的ICP刻蝕形貌控製具有重要的指導意義.
규적각식형모공제시MEMS기건가공중적관건기술지일,형모공제시규표면각식화둔화반응취득평형적결과,임하영향각식화둔화반응적인소도회영향도각식형모.채용중과원미전자연발중심연제적기우화학평형원리적ICP-98A등리자각식궤,대ICP각식당중영향형모적관건공예삼수진행료연구화분석,연구료원공솔RF1、사빈공솔RF2급기체(SF6화C4F8)비례대각식형모적영향,분석료bowing현상산생궤제,병급출료강저저충현상적공예방법.해연구대제고규적ICP각식형모공제구유중요적지도의의.
