真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2006年
2期
142-146
,共5页
何欣%杨会生%王燕斌%熊小涛%乔利杰%瞿春燕%杨建军
何訢%楊會生%王燕斌%熊小濤%喬利傑%瞿春燕%楊建軍
하흔%양회생%왕연빈%웅소도%교리걸%구춘연%양건군
磁控溅射%(Ti,Al)N薄膜%硬度%等离子体发射光谱
磁控濺射%(Ti,Al)N薄膜%硬度%等離子體髮射光譜
자공천사%(Ti,Al)N박막%경도%등리자체발사광보
采用射频磁控溅射,用Al靶和Ti靶同时溅射沉积(Ti,Al)N薄膜.研究表明:不同Al靶功率沉积的薄膜中始终存在面心立方结构(B1型),当Al靶功率大于250 W薄膜中面心立方结构(B1型)和六方结构(B4型)共存.随Al成分的增加,B1型结构晶格常数减小,薄膜择优取向由B1型(111)向B4型(002)转变.薄膜表面随Al靶功率增加分别呈岛状、纤维状和柱状增长.(Ti,Al)N薄膜的硬度随Al靶功率的增加呈上升趋势.等离子体发射光谱分析显示,在相同工艺条件下Al靶比Ti靶先进入非金属态溅射模式,导致在相同功率下Al溅射速率低于Ti溅射速率.
採用射頻磁控濺射,用Al靶和Ti靶同時濺射沉積(Ti,Al)N薄膜.研究錶明:不同Al靶功率沉積的薄膜中始終存在麵心立方結構(B1型),噹Al靶功率大于250 W薄膜中麵心立方結構(B1型)和六方結構(B4型)共存.隨Al成分的增加,B1型結構晶格常數減小,薄膜擇優取嚮由B1型(111)嚮B4型(002)轉變.薄膜錶麵隨Al靶功率增加分彆呈島狀、纖維狀和柱狀增長.(Ti,Al)N薄膜的硬度隨Al靶功率的增加呈上升趨勢.等離子體髮射光譜分析顯示,在相同工藝條件下Al靶比Ti靶先進入非金屬態濺射模式,導緻在相同功率下Al濺射速率低于Ti濺射速率.
채용사빈자공천사,용Al파화Ti파동시천사침적(Ti,Al)N박막.연구표명:불동Al파공솔침적적박막중시종존재면심립방결구(B1형),당Al파공솔대우250 W박막중면심립방결구(B1형)화륙방결구(B4형)공존.수Al성분적증가,B1형결구정격상수감소,박막택우취향유B1형(111)향B4형(002)전변.박막표면수Al파공솔증가분별정도상、섬유상화주상증장.(Ti,Al)N박막적경도수Al파공솔적증가정상승추세.등리자체발사광보분석현시,재상동공예조건하Al파비Ti파선진입비금속태천사모식,도치재상동공솔하Al천사속솔저우Ti천사속솔.
