电子与信息学报
電子與信息學報
전자여신식학보
JOURNAL OF ELECTRONICS & INFORMATION TECHNOLOGY
2011年
12期
3040-3045
,共6页
阴生毅%张洪来%杨靖鑫%奎热西%钱海杰%王嘉欧%王宇%王欣欣
陰生毅%張洪來%楊靖鑫%奎熱西%錢海傑%王嘉歐%王宇%王訢訢
음생의%장홍래%양정흠%규열서%전해걸%왕가구%왕우%왕흔흔
浸渍阴极%锇(Os)膜%同步辐射光电子能谱%化学态%超额钡
浸漬陰極%鋨(Os)膜%同步輻射光電子能譜%化學態%超額鋇
침지음겁%철(Os)막%동보복사광전자능보%화학태%초액패
为何浸渍阴极表面覆一层高功函数的锇(Os)膜后发射能力可以显著增加?这是一个长期未搞清的重要问题.该文在对阴极进行发射性能测试和扫描电镜分析的基础上,利用同步辐射光电子谱装置,对覆钨(W)膜阴极和覆Os膜阴极表面的元素成分及化学状态进行了全面系统的研究.结果表明,覆Os膜阴极的电子发射能力是覆W膜阴极2.65倍；与覆W膜相比,覆Os膜使阴极表面的钡(Ba)原子和低结合能态的吸附氧(O)原子分别增加了40％和56％.进一步分析认为,Os膜具有易氧化及氧化物易分解的特性,这一特性决定了覆Os膜阴极在激活后可以获得更多的超额钡Ba+(a),并因此具备更高的电子发射能力.
為何浸漬陰極錶麵覆一層高功函數的鋨(Os)膜後髮射能力可以顯著增加?這是一箇長期未搞清的重要問題.該文在對陰極進行髮射性能測試和掃描電鏡分析的基礎上,利用同步輻射光電子譜裝置,對覆鎢(W)膜陰極和覆Os膜陰極錶麵的元素成分及化學狀態進行瞭全麵繫統的研究.結果錶明,覆Os膜陰極的電子髮射能力是覆W膜陰極2.65倍；與覆W膜相比,覆Os膜使陰極錶麵的鋇(Ba)原子和低結閤能態的吸附氧(O)原子分彆增加瞭40％和56％.進一步分析認為,Os膜具有易氧化及氧化物易分解的特性,這一特性決定瞭覆Os膜陰極在激活後可以穫得更多的超額鋇Ba+(a),併因此具備更高的電子髮射能力.
위하침지음겁표면복일층고공함수적철(Os)막후발사능력가이현저증가?저시일개장기미고청적중요문제.해문재대음겁진행발사성능측시화소묘전경분석적기출상,이용동보복사광전자보장치,대복오(W)막음겁화복Os막음겁표면적원소성분급화학상태진행료전면계통적연구.결과표명,복Os막음겁적전자발사능력시복W막음겁2.65배；여복W막상비,복Os막사음겁표면적패(Ba)원자화저결합능태적흡부양(O)원자분별증가료40％화56％.진일보분석인위,Os막구유역양화급양화물역분해적특성,저일특성결정료복Os막음겁재격활후가이획득경다적초액패Ba+(a),병인차구비경고적전자발사능력.
