光学学报
光學學報
광학학보
ACTA OPTICA SINICA
2006年
10期
1585-1588
,共4页
李璠%王立%戴江南%蒲勇%方文卿%江风益
李璠%王立%戴江南%蒲勇%方文卿%江風益
리번%왕립%대강남%포용%방문경%강풍익
薄膜光学%氧化锌%氢%常压金属有机物化学气相沉积%光致发光
薄膜光學%氧化鋅%氫%常壓金屬有機物化學氣相沉積%光緻髮光
박막광학%양화자%경%상압금속유궤물화학기상침적%광치발광
采用常压金属有机物化学气相沉积技术(AP-MOCVD),以二乙基锌(DEZn)为Zn源,去离子水(H2O)为氧源,N2作载气,在外延ZnO薄膜的反应气氛中通入少量氢气,在c-Al2O3衬底上生长出了ZnO:H薄膜.用X射线双晶衍射和光致发光谱对ZnO:H薄膜的结晶性能和光学性质进行表征.结果表明,ZnO:H薄膜(002)和(102)面的Ω扫描半峰全宽分别为46.1 mrad和81.4 mrad,表明该薄膜具有良好的结晶性能;室温下,ZnO:H薄膜具有较强的紫外光发射(380 nm),在低温10 K光致发光谱中观测到位于3.3630 eV处与氢相关的中性施主束缚激子峰(I4)及其位于3.331 eV处的双电子卫星峰(TES).采用退火的方法,通过观测I4峰的强度变化,研究了氢在ZnO:H薄膜中的热稳定性.发现随着退火温度的升高,I4峰的强度逐渐减弱,表明在高温下退火,氢会从ZnO薄膜中逸出.
採用常壓金屬有機物化學氣相沉積技術(AP-MOCVD),以二乙基鋅(DEZn)為Zn源,去離子水(H2O)為氧源,N2作載氣,在外延ZnO薄膜的反應氣氛中通入少量氫氣,在c-Al2O3襯底上生長齣瞭ZnO:H薄膜.用X射線雙晶衍射和光緻髮光譜對ZnO:H薄膜的結晶性能和光學性質進行錶徵.結果錶明,ZnO:H薄膜(002)和(102)麵的Ω掃描半峰全寬分彆為46.1 mrad和81.4 mrad,錶明該薄膜具有良好的結晶性能;室溫下,ZnO:H薄膜具有較彊的紫外光髮射(380 nm),在低溫10 K光緻髮光譜中觀測到位于3.3630 eV處與氫相關的中性施主束縳激子峰(I4)及其位于3.331 eV處的雙電子衛星峰(TES).採用退火的方法,通過觀測I4峰的彊度變化,研究瞭氫在ZnO:H薄膜中的熱穩定性.髮現隨著退火溫度的升高,I4峰的彊度逐漸減弱,錶明在高溫下退火,氫會從ZnO薄膜中逸齣.
채용상압금속유궤물화학기상침적기술(AP-MOCVD),이이을기자(DEZn)위Zn원,거리자수(H2O)위양원,N2작재기,재외연ZnO박막적반응기분중통입소량경기,재c-Al2O3츤저상생장출료ZnO:H박막.용X사선쌍정연사화광치발광보대ZnO:H박막적결정성능화광학성질진행표정.결과표명,ZnO:H박막(002)화(102)면적Ω소묘반봉전관분별위46.1 mrad화81.4 mrad,표명해박막구유량호적결정성능;실온하,ZnO:H박막구유교강적자외광발사(380 nm),재저온10 K광치발광보중관측도위우3.3630 eV처여경상관적중성시주속박격자봉(I4)급기위우3.331 eV처적쌍전자위성봉(TES).채용퇴화적방법,통과관측I4봉적강도변화,연구료경재ZnO:H박막중적열은정성.발현수착퇴화온도적승고,I4봉적강도축점감약,표명재고온하퇴화,경회종ZnO박막중일출.