核技术
覈技術
핵기술
NUCLEAR TECHNIQUES
2009年
7期
492-496
,共5页
孙柏%康朝阳%李锐鹏%刘忠良%唐军%徐彭寿%潘国强
孫柏%康朝暘%李銳鵬%劉忠良%唐軍%徐彭壽%潘國彊
손백%강조양%리예붕%류충량%당군%서팽수%반국강
ZnO%PLD%α-Al2O3(001)衬底%掠入射衍射%同步辐射
ZnO%PLD%α-Al2O3(001)襯底%掠入射衍射%同步輻射
ZnO%PLD%α-Al2O3(001)츤저%략입사연사%동보복사
采用脉冲激光沉积(PLD)技术,以α-Al2O3(001)为衬底,在不同衬底温度下制备ZnO薄膜.利用X射线衍射(XRD)和同步辐射掠入射x射线衍射(GID)研究了薄膜的结晶性能和薄膜与衬底的界面结构.实验结果表明,在衬底温度较低(450℃)时,ZnO薄膜主要受衬底拉应力的作用,使界面处a方向的晶格常数增大;而在衬底温度较高(750℃)时,ZnO薄膜主要受衬底压应力的作用,使界面处a方向的晶格常数减小;在优化的衬底温度(650℃)下,ZnO薄膜受到的衬底应力较小,结晶性最好.且ZnO薄膜垂直方向的晶格排列要比面内的晶格排列更有序.
採用脈遲激光沉積(PLD)技術,以α-Al2O3(001)為襯底,在不同襯底溫度下製備ZnO薄膜.利用X射線衍射(XRD)和同步輻射掠入射x射線衍射(GID)研究瞭薄膜的結晶性能和薄膜與襯底的界麵結構.實驗結果錶明,在襯底溫度較低(450℃)時,ZnO薄膜主要受襯底拉應力的作用,使界麵處a方嚮的晶格常數增大;而在襯底溫度較高(750℃)時,ZnO薄膜主要受襯底壓應力的作用,使界麵處a方嚮的晶格常數減小;在優化的襯底溫度(650℃)下,ZnO薄膜受到的襯底應力較小,結晶性最好.且ZnO薄膜垂直方嚮的晶格排列要比麵內的晶格排列更有序.
채용맥충격광침적(PLD)기술,이α-Al2O3(001)위츤저,재불동츤저온도하제비ZnO박막.이용X사선연사(XRD)화동보복사략입사x사선연사(GID)연구료박막적결정성능화박막여츤저적계면결구.실험결과표명,재츤저온도교저(450℃)시,ZnO박막주요수츤저랍응력적작용,사계면처a방향적정격상수증대;이재츤저온도교고(750℃)시,ZnO박막주요수츤저압응력적작용,사계면처a방향적정격상수감소;재우화적츤저온도(650℃)하,ZnO박막수도적츤저응력교소,결정성최호.차ZnO박막수직방향적정격배렬요비면내적정격배렬경유서.
