清洗世界
清洗世界
청세세계
CHEMICAL CLEANING
2004年
3期
5-7
,共3页
黄炳辉%黄培芳%傅海萍%周舟
黃炳輝%黃培芳%傅海萍%週舟
황병휘%황배방%부해평%주주
锅炉%缓蚀剂%化学清洗
鍋爐%緩蝕劑%化學清洗
과로%완식제%화학청세
采用HCl-IMC-NH4F体系,对模拟锅炉进行化学清洗IMC-5质量分数为0.3%,NH4F浓度为3g/L,温度为99%以上.
採用HCl-IMC-NH4F體繫,對模擬鍋爐進行化學清洗IMC-5質量分數為0.3%,NH4F濃度為3g/L,溫度為99%以上.
채용HCl-IMC-NH4F체계,대모의과로진행화학청세IMC-5질량분수위0.3%,NH4F농도위3g/L,온도위99%이상.
