电子元件与材料
電子元件與材料
전자원건여재료
ELECTRONIC COMPONENTS & MATERIALS
2009年
7期
36-38
,共3页
贝力%朱俊%赵丹%郑润华%李言荣
貝力%硃俊%趙丹%鄭潤華%李言榮
패력%주준%조단%정윤화%리언영
NiO薄膜%激光脉冲沉积法%外延匹配%蓝宝石衬底
NiO薄膜%激光脈遲沉積法%外延匹配%藍寶石襯底
NiO박막%격광맥충침적법%외연필배%람보석츤저
采用脉冲激光沉积法(PLD)在具有六方纤锌矿结构的蓝宝石衬底上制备了NiO外延薄膜,研究了沉积温度、氧分压对薄膜结构和形貌的影响.在650℃、20 Pa氧分压的条件下制得了高结晶质量的单晶NiO薄膜.高能电子衍射分析发现,该NiO薄膜沿A12O3[11-20]方向入射的衍射图像为清晰的斑点,说明NiO薄膜的生长模式为岛状模式,薄膜与衬底的外延匹配关系为:(111)[11-2]NiO11(0001)[11-20]A1203.
採用脈遲激光沉積法(PLD)在具有六方纖鋅礦結構的藍寶石襯底上製備瞭NiO外延薄膜,研究瞭沉積溫度、氧分壓對薄膜結構和形貌的影響.在650℃、20 Pa氧分壓的條件下製得瞭高結晶質量的單晶NiO薄膜.高能電子衍射分析髮現,該NiO薄膜沿A12O3[11-20]方嚮入射的衍射圖像為清晰的斑點,說明NiO薄膜的生長模式為島狀模式,薄膜與襯底的外延匹配關繫為:(111)[11-2]NiO11(0001)[11-20]A1203.
채용맥충격광침적법(PLD)재구유륙방섬자광결구적람보석츤저상제비료NiO외연박막,연구료침적온도、양분압대박막결구화형모적영향.재650℃、20 Pa양분압적조건하제득료고결정질량적단정NiO박막.고능전자연사분석발현,해NiO박막연A12O3[11-20]방향입사적연사도상위청석적반점,설명NiO박막적생장모식위도상모식,박막여츤저적외연필배관계위:(111)[11-2]NiO11(0001)[11-20]A1203.
