量子电子学报
量子電子學報
양자전자학보
CHINESE JOURNAL OF QUANTUM ELECTRONICS
2010年
5期
522-527
,共6页
游利兵%周翊%梁勖%余吟山%方晓东%王宇
遊利兵%週翊%樑勗%餘吟山%方曉東%王宇
유리병%주익%량욱%여음산%방효동%왕우
激光技术%ArF准分子激光%光刻%双图形
激光技術%ArF準分子激光%光刻%雙圖形
격광기술%ArF준분자격광%광각%쌍도형
193nm ArF准分子激光光刻技术已广泛应用于90 nm以下节点半导体量产.分析了近期发展用于改进准分子激光性能的关键技术:主振-功率再生放大(MOPRA)结构,主振-功率振荡(MOPO)结构,主动光谱带宽稳定技术,先进的气体管理技术.对光刻用准分子激光光源技术发展趋势进行了简要的讨论.
193nm ArF準分子激光光刻技術已廣汎應用于90 nm以下節點半導體量產.分析瞭近期髮展用于改進準分子激光性能的關鍵技術:主振-功率再生放大(MOPRA)結構,主振-功率振盪(MOPO)結構,主動光譜帶寬穩定技術,先進的氣體管理技術.對光刻用準分子激光光源技術髮展趨勢進行瞭簡要的討論.
193nm ArF준분자격광광각기술이엄범응용우90 nm이하절점반도체양산.분석료근기발전용우개진준분자격광성능적관건기술:주진-공솔재생방대(MOPRA)결구,주진-공솔진탕(MOPO)결구,주동광보대관은정기술,선진적기체관리기술.대광각용준분자격광광원기술발전추세진행료간요적토론.
