光学精密工程
光學精密工程
광학정밀공정
OPTICS AND PRECISION ENGINEERING
2008年
12期
2497-2502
,共6页
徐领娣%郑立功%范镝%张学军%王加朋
徐領娣%鄭立功%範鏑%張學軍%王加朋
서령제%정립공%범적%장학군%왕가붕
反应烧结碳化硅%表面改性%离子辅助沉积硅%表面反射率
反應燒結碳化硅%錶麵改性%離子輔助沉積硅%錶麵反射率
반응소결탄화규%표면개성%리자보조침적규%표면반사솔
针对空间相机用反射镜RB-SiC材料由Si\SiC两相结构引起的光学表面缺陷问题,提出了表面离子辅助沉积(IAD)硅膜的改性新方案以优化RB-SiC光学表面反射率.对厚度为10±0.5/μm的IAD-Si改性层的主要性能研究显示:IAD-Si膜层为非结晶结构,能够提供较好的抛光表面,在77～673 K的热冲击下膜层稳定性良好.以Si膜的抛光机理为依据,对IAD-Si改性层进行了大量抛光工艺实验和表面质量测试,给出了关键的抛光工艺参数和实验结果.通过表面IAD-Si改性及本文提出的改性层超精加工技术能够在反射镜表面得到面形精度RMS值优于1/20λ(λ=632.8 nm)且表面粗糙度RMS值<O.5 nm的超光滑表面;与改性前相比,反射镜改性层抛光表面在360～1 100 nm波段的反射率提高了4.5%以上.
針對空間相機用反射鏡RB-SiC材料由Si\SiC兩相結構引起的光學錶麵缺陷問題,提齣瞭錶麵離子輔助沉積(IAD)硅膜的改性新方案以優化RB-SiC光學錶麵反射率.對厚度為10±0.5/μm的IAD-Si改性層的主要性能研究顯示:IAD-Si膜層為非結晶結構,能夠提供較好的拋光錶麵,在77～673 K的熱遲擊下膜層穩定性良好.以Si膜的拋光機理為依據,對IAD-Si改性層進行瞭大量拋光工藝實驗和錶麵質量測試,給齣瞭關鍵的拋光工藝參數和實驗結果.通過錶麵IAD-Si改性及本文提齣的改性層超精加工技術能夠在反射鏡錶麵得到麵形精度RMS值優于1/20λ(λ=632.8 nm)且錶麵粗糙度RMS值<O.5 nm的超光滑錶麵;與改性前相比,反射鏡改性層拋光錶麵在360～1 100 nm波段的反射率提高瞭4.5%以上.
침대공간상궤용반사경RB-SiC재료유Si\SiC량상결구인기적광학표면결함문제,제출료표면리자보조침적(IAD)규막적개성신방안이우화RB-SiC광학표면반사솔.대후도위10±0.5/μm적IAD-Si개성층적주요성능연구현시:IAD-Si막층위비결정결구,능구제공교호적포광표면,재77～673 K적열충격하막층은정성량호.이Si막적포광궤리위의거,대IAD-Si개성층진행료대량포광공예실험화표면질량측시,급출료관건적포광공예삼수화실험결과.통과표면IAD-Si개성급본문제출적개성층초정가공기술능구재반사경표면득도면형정도RMS치우우1/20λ(λ=632.8 nm)차표면조조도RMS치<O.5 nm적초광활표면;여개성전상비,반사경개성층포광표면재360～1 100 nm파단적반사솔제고료4.5%이상.
