电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2008年
10期
1-9
,共9页
徐端颐%范晓冬%蒋培军%齐国生
徐耑頤%範曉鼕%蔣培軍%齊國生
서단이%범효동%장배군%제국생
阵列激光扫描%浸没式镜头%直写光刻
陣列激光掃描%浸沒式鏡頭%直寫光刻
진렬격광소묘%침몰식경두%직사광각
介绍一种以显微镜结构为基础的浸没式阵列激光扫描直写光刻系统的光路结构、有效焦深、自动调焦及曝光能量控制的原理和方法.实验系统的有效数值孔径(ENA)为1.83,使用的激光波长为355 mm时,在实验室条件下得到的最细线条宽度为65 mm.
介紹一種以顯微鏡結構為基礎的浸沒式陣列激光掃描直寫光刻繫統的光路結構、有效焦深、自動調焦及曝光能量控製的原理和方法.實驗繫統的有效數值孔徑(ENA)為1.83,使用的激光波長為355 mm時,在實驗室條件下得到的最細線條寬度為65 mm.
개소일충이현미경결구위기출적침몰식진렬격광소묘직사광각계통적광로결구、유효초심、자동조초급폭광능량공제적원리화방법.실험계통적유효수치공경(ENA)위1.83,사용적격광파장위355 mm시,재실험실조건하득도적최세선조관도위65 mm.
