CAJ | 학술논문

以TiO2/SiO2为光催化剂, 在紫外光作用下, 讨论了NO2存在时, 庚烯在TiO2/SiO2上的吸附和光催化降解作用. 通过GC-MS和FT-IR, 分别测定了3种不同体系的反应产物, 从而推测出可能的反应机理. 实验结果表明, TiO2/SiO2对庚烯的最大吸附量Mmax=3.10 mg, 当存在NO2(44.64 μmol/L)时Mmax=3.80 mg. 在光催化降解庚烯的反应中, 当NO2加入量较大(NO2≥89.28 μmol/L)时, 庚烯降解反应速率加快, 但矿化度比无 NO2时的小.
이TiO2/SiO2위광최화제, 재자외광작용하, 토론료NO2존재시, 경희재TiO2/SiO2상적흡부화광최화강해작용. 통과GC-MS화FT-IR, 분별측정료3충불동체계적반응산물, 종이추측출가능적반응궤리. 실험결과표명, TiO2/SiO2대경희적최대흡부량Mmax=3.10 mg, 당존재NO2(44.64 μmol/L)시Mmax=3.80 mg. 재광최화강해경희적반응중, 당NO2가입량교대(NO2≥89.28 μmol/L)시, 경희강해반응속솔가쾌, 단광화도비무 NO2시적소.