物理学报
物理學報
물이학보
2008年
1期
586-591
,共6页
马保宏%李燕%王成伟%王建%陈建彪%刘维民
馬保宏%李燕%王成偉%王建%陳建彪%劉維民
마보굉%리연%왕성위%왕건%진건표%류유민
多孔 TiO2薄膜%阳极氧化%紫外光吸收
多孔 TiO2薄膜%暘極氧化%紫外光吸收
다공 TiO2박막%양겁양화%자외광흡수
在SiO2玻璃衬底上用脉冲激光沉积(PLD)技术,分别沉积Ti和Ti/Al膜,经电化学阳极氧化成功制备了多孔TiO2/SiO2和TiO2/Al/SiO2纳米复合结构.其中TiO2薄膜上的微孔阵列高度有序,分布均匀.实验研究了Al过渡层对多孔 TiO2薄膜光吸收特性的影响.结果表明:无Al过渡层的多孔 TiO2薄膜其紫外吸收峰在270 nm处.且峰强不随阳极氧化工艺参数调节;而有Al过渡层的多孔TiO2薄膜其紫外吸收峰红移至293 nm处,峰强和峰形不仅受阳极氧化电压调节而且受Al过渡层厚度的影响也很敏感.进一步分析了两种结构在吸收边附近的光跃迁特性.这些结果对基于多孔 TiO2的光伏电池和紫外光传感器的应用研究非常有益.
在SiO2玻璃襯底上用脈遲激光沉積(PLD)技術,分彆沉積Ti和Ti/Al膜,經電化學暘極氧化成功製備瞭多孔TiO2/SiO2和TiO2/Al/SiO2納米複閤結構.其中TiO2薄膜上的微孔陣列高度有序,分佈均勻.實驗研究瞭Al過渡層對多孔 TiO2薄膜光吸收特性的影響.結果錶明:無Al過渡層的多孔 TiO2薄膜其紫外吸收峰在270 nm處.且峰彊不隨暘極氧化工藝參數調節;而有Al過渡層的多孔TiO2薄膜其紫外吸收峰紅移至293 nm處,峰彊和峰形不僅受暘極氧化電壓調節而且受Al過渡層厚度的影響也很敏感.進一步分析瞭兩種結構在吸收邊附近的光躍遷特性.這些結果對基于多孔 TiO2的光伏電池和紫外光傳感器的應用研究非常有益.
재SiO2파리츤저상용맥충격광침적(PLD)기술,분별침적Ti화Ti/Al막,경전화학양겁양화성공제비료다공TiO2/SiO2화TiO2/Al/SiO2납미복합결구.기중TiO2박막상적미공진렬고도유서,분포균균.실험연구료Al과도층대다공 TiO2박막광흡수특성적영향.결과표명:무Al과도층적다공 TiO2박막기자외흡수봉재270 nm처.차봉강불수양겁양화공예삼수조절;이유Al과도층적다공TiO2박막기자외흡수봉홍이지293 nm처,봉강화봉형불부수양겁양화전압조절이차수Al과도층후도적영향야흔민감.진일보분석료량충결구재흡수변부근적광약천특성.저사결과대기우다공 TiO2적광복전지화자외광전감기적응용연구비상유익.
