信息记录材料
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신식기록재료
INFORMATION RECORDING MATERIALS
2003年
1期
16-19
,共4页
DUV光致抗蚀剂%矩阵树脂%产酸源%阻溶剂%化学增幅
DUV光緻抗蝕劑%矩陣樹脂%產痠源%阻溶劑%化學增幅
DUV광치항식제%구진수지%산산원%조용제%화학증폭
综述了近十年来DUV抗蚀剂体系的进展,特别对DUV区化学增幅抗蚀剂的矩阵树脂、产酸源、阻溶剂作了详细的阐述.并指出,通过改进感光高分子的结构与组成,可以获得性质优良的抗蚀剂.
綜述瞭近十年來DUV抗蝕劑體繫的進展,特彆對DUV區化學增幅抗蝕劑的矩陣樹脂、產痠源、阻溶劑作瞭詳細的闡述.併指齣,通過改進感光高分子的結構與組成,可以穫得性質優良的抗蝕劑.
종술료근십년래DUV항식제체계적진전,특별대DUV구화학증폭항식제적구진수지、산산원、조용제작료상세적천술.병지출,통과개진감광고분자적결구여조성,가이획득성질우량적항식제.
