氮化硅薄膜制备和生长动力学研究进展
담화규박막제비화생장동역학연구진전
Silicon Nitride :Preparation and Current Research on Growth Kinetics
  • 万方数据
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    MATERIALS REVIEW
    2002年 12期 34-36 ,共3页

    祝洪良%裴艳丽%杨德仁

    축홍량%배염려%양덕인

    氮化硅%氮化%动力学%硅生%长机理 氮化硅%氮化%動力學%硅生%長機理
    담화규%담화%동역학%규생%장궤리
    综述了氮化硅在微电子中的应用、制备,阐述了用氮气直接氮化的影响因素、膜生长的机理和动力学,以及未来的研究方向.
    종술료담화규재미전자중적응용、제비,천술료용담기직접담화적영향인소、막생장적궤리화동역학,이급미래적연구방향.
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