半导体技术
半導體技術
반도체기술
SEMICONDUCTOR TECHNOLOGY
2004年
11期
19-21
,共3页
李希有%周卫%张伟%仲涛%刘志弘
李希有%週衛%張偉%仲濤%劉誌弘
리희유%주위%장위%중도%류지홍
反应离子刻蚀%正交试验%Al刻蚀%刻蚀速率
反應離子刻蝕%正交試驗%Al刻蝕%刻蝕速率
반응리자각식%정교시험%Al각식%각식속솔
采用正交试验法对二手RIE刻Al设备A-360进行工艺参数选择试验,并以均匀性、刻蚀速率、对PR选择比为评价指标.试验中发现RF功率是影响各评价指标的最主要因素.通过进一步优化工艺,制定出了均匀性小于3%,刻蚀速率高于300nm/min,对PR选择比好于1.8的刻Al实用工艺.
採用正交試驗法對二手RIE刻Al設備A-360進行工藝參數選擇試驗,併以均勻性、刻蝕速率、對PR選擇比為評價指標.試驗中髮現RF功率是影響各評價指標的最主要因素.通過進一步優化工藝,製定齣瞭均勻性小于3%,刻蝕速率高于300nm/min,對PR選擇比好于1.8的刻Al實用工藝.
채용정교시험법대이수RIE각Al설비A-360진행공예삼수선택시험,병이균균성、각식속솔、대PR선택비위평개지표.시험중발현RF공솔시영향각평개지표적최주요인소.통과진일보우화공예,제정출료균균성소우3%,각식속솔고우300nm/min,대PR선택비호우1.8적각Al실용공예.
