相变存储器曝光工艺研究
상변존저기폭광공예연구
Study on C-RAM Electron Beam Lithography Technology
  • 万方数据
    微纳电子技术 미납전자기술
    MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
    2006年 6期 298-300 ,共3页

    吕士龙%宋志棠%封松林

    려사룡%송지당%봉송림

    曝光%相变材料%邻近效应%电极 曝光%相變材料%鄰近效應%電極
    폭광%상변재료%린근효응%전겁
    介绍了在相变材料上的曝光工艺研究,得出了相应的工艺条件,研究了邻近效应的影响以及利用邻近效应制作nm量级间隔大电极对的方法.
    개소료재상변재료상적폭광공예연구,득출료상응적공예조건,연구료린근효응적영향이급이용린근효응제작nm량급간격대전겁대적방법.
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