传感技术学报
傳感技術學報
전감기술학보
Journal of Transduction Technology
2008年
4期
553-555
,共3页
吕尊实%周嘉%黄宜平%是慧芳
呂尊實%週嘉%黃宜平%是慧芳
려존실%주가%황의평%시혜방
微加工%电镀%微电极阵列%PDMS(Polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)
微加工%電鍍%微電極陣列%PDMS(Polydimethylsiloxane,聚二甲基硅氧烷)
미가공%전도%미전겁진렬%PDMS(Polydimethylsiloxane,취이갑기규양완)
尝试了一种低成本的三维微电极阵列微加工的新方法.玻璃划片形成的柱状阵列,经掩膜腐蚀后形成阳模板,再利用PDMS的微复制技术形成阴模板.利用阴模板进行电镀,可以得到三维微电极阵列.制作的铜电极阵列高度约180 μm,为制作更长的神经微电极阵列打下了基础.
嘗試瞭一種低成本的三維微電極陣列微加工的新方法.玻璃劃片形成的柱狀陣列,經掩膜腐蝕後形成暘模闆,再利用PDMS的微複製技術形成陰模闆.利用陰模闆進行電鍍,可以得到三維微電極陣列.製作的銅電極陣列高度約180 μm,為製作更長的神經微電極陣列打下瞭基礎.
상시료일충저성본적삼유미전겁진렬미가공적신방법.파리화편형성적주상진렬,경엄막부식후형성양모판,재이용PDMS적미복제기술형성음모판.이용음모판진행전도,가이득도삼유미전겁진렬.제작적동전겁진렬고도약180 μm,위제작경장적신경미전겁진렬타하료기출.
