材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2010年
z2期
543-545
,共3页
冯婧%朱有兰%詹柏林%陈颖
馮婧%硃有蘭%詹柏林%陳穎
풍청%주유란%첨백림%진영
电镀%Ni-P合金镀层%正交试验%非晶
電鍍%Ni-P閤金鍍層%正交試驗%非晶
전도%Ni-P합금도층%정교시험%비정
通过添加适量的添加剂,采用正交试验方法,研究了高氯化铵质量浓度下在Q235钢基体上低温电镀Ni-P合金的工艺参数.实验得出最佳工艺条件为:NiSO4·6H2O 40g/L、NaH2PO2·H2O 30g/L、H3BO315g/L、NH4Cl 32g/L、添加剂T10.12g/L、添加剂T20.03g/L、添加剂T30.1g/L、施镀温度45℃、电流密度0.015A/cm2、pH=4.最佳工艺条件下所获镀层的EDS分析表明,镀层由靠近基体部位到镀层表面部位,P质量分数变化情况为6.61%→7.18%→8.73%.随着离基体距离的增大,镀层显微结构由晶态向微晶转化,最后为完全非晶态.
通過添加適量的添加劑,採用正交試驗方法,研究瞭高氯化銨質量濃度下在Q235鋼基體上低溫電鍍Ni-P閤金的工藝參數.實驗得齣最佳工藝條件為:NiSO4·6H2O 40g/L、NaH2PO2·H2O 30g/L、H3BO315g/L、NH4Cl 32g/L、添加劑T10.12g/L、添加劑T20.03g/L、添加劑T30.1g/L、施鍍溫度45℃、電流密度0.015A/cm2、pH=4.最佳工藝條件下所穫鍍層的EDS分析錶明,鍍層由靠近基體部位到鍍層錶麵部位,P質量分數變化情況為6.61%→7.18%→8.73%.隨著離基體距離的增大,鍍層顯微結構由晶態嚮微晶轉化,最後為完全非晶態.
통과첨가괄량적첨가제,채용정교시험방법,연구료고록화안질량농도하재Q235강기체상저온전도Ni-P합금적공예삼수.실험득출최가공예조건위:NiSO4·6H2O 40g/L、NaH2PO2·H2O 30g/L、H3BO315g/L、NH4Cl 32g/L、첨가제T10.12g/L、첨가제T20.03g/L、첨가제T30.1g/L、시도온도45℃、전류밀도0.015A/cm2、pH=4.최가공예조건하소획도층적EDS분석표명,도층유고근기체부위도도층표면부위,P질량분수변화정황위6.61%→7.18%→8.73%.수착리기체거리적증대,도층현미결구유정태향미정전화,최후위완전비정태.
