光谱学与光谱分析
光譜學與光譜分析
광보학여광보분석
SPECTROSCOPY AND SPECTRAL ANALYSIS
2006年
9期
1594-1597
,共4页
孙殿平%朱轶%杨晓华%应许屏%刘煜炎%陈扬骎
孫殿平%硃軼%楊曉華%應許屏%劉煜炎%陳颺骎
손전평%주질%양효화%응허병%류욱염%진양침
交流辉光放电%氮分子%浓度调制%发射光谱%转动温度%振动温度
交流輝光放電%氮分子%濃度調製%髮射光譜%轉動溫度%振動溫度
교류휘광방전%담분자%농도조제%발사광보%전동온도%진동온도
建立了一套交流放电产生离子分子束源的装置,以N2为例,束流中N2+的发射谱强度远大于N2的发射谱强度,N2+(B)/N2(C)高达6∶1.根据其发射谱,对交流放电过程和浓度调制光谱进行了测量研究,并计算了离子分子激发态振动温度和转动温度,分别为3 310和282 K.
建立瞭一套交流放電產生離子分子束源的裝置,以N2為例,束流中N2+的髮射譜彊度遠大于N2的髮射譜彊度,N2+(B)/N2(C)高達6∶1.根據其髮射譜,對交流放電過程和濃度調製光譜進行瞭測量研究,併計算瞭離子分子激髮態振動溫度和轉動溫度,分彆為3 310和282 K.
건립료일투교류방전산생리자분자속원적장치,이N2위례,속류중N2+적발사보강도원대우N2적발사보강도,N2+(B)/N2(C)고체6∶1.근거기발사보,대교류방전과정화농도조제광보진행료측량연구,병계산료리자분자격발태진동온도화전동온도,분별위3 310화282 K.
