核技术
覈技術
핵기술
NUCLEAR TECHNIQUES
2003年
11期
823-826
,共4页
曾宇昕%程国安%王水凤%肖志松
曾宇昕%程國安%王水鳳%肖誌鬆
증우흔%정국안%왕수봉%초지송
离子注入%钕硅化合物%结构
離子註入%釹硅化閤物%結構
리자주입%녀규화합물%결구
采用金属蒸气真空弧(MEVVA)离子源以低束流方式将Nd离子注入到外延硅片中,经高温快速退火处理,制备了结晶良好的钕硅掺杂层.用扫描电子显微镜(SEM)、反射式高能电子衍射(RHEED)和X射线衍射(XRD)分析了在不同退火条件下样品注入层相结构的变化.研究结果表明,经高温热处理,注入层形成结晶良好的钕硅化合物,出现由Nd5Si4相向NdSi相转变的趋势.并对其转变过程进行了初步探讨.
採用金屬蒸氣真空弧(MEVVA)離子源以低束流方式將Nd離子註入到外延硅片中,經高溫快速退火處理,製備瞭結晶良好的釹硅摻雜層.用掃描電子顯微鏡(SEM)、反射式高能電子衍射(RHEED)和X射線衍射(XRD)分析瞭在不同退火條件下樣品註入層相結構的變化.研究結果錶明,經高溫熱處理,註入層形成結晶良好的釹硅化閤物,齣現由Nd5Si4相嚮NdSi相轉變的趨勢.併對其轉變過程進行瞭初步探討.
채용금속증기진공호(MEVVA)리자원이저속류방식장Nd리자주입도외연규편중,경고온쾌속퇴화처리,제비료결정량호적녀규참잡층.용소묘전자현미경(SEM)、반사식고능전자연사(RHEED)화X사선연사(XRD)분석료재불동퇴화조건하양품주입층상결구적변화.연구결과표명,경고온열처리,주입층형성결정량호적녀규화합물,출현유Nd5Si4상향NdSi상전변적추세.병대기전변과정진행료초보탐토.
