分析化学
分析化學
분석화학
CHINESE JOURNAL OF ANALYTICAL CHEMISTRY
2008年
5期
599-603
,共5页
曾令民%杨喜英%王力珩%李小萍%葛宪民
曾令民%楊喜英%王力珩%李小萍%葛憲民
증령민%양희영%왕력형%리소평%갈헌민
定量分析%游离二氧化硅%非晶体%X射线衍射%Rietveld全谱图拟合法
定量分析%遊離二氧化硅%非晶體%X射線衍射%Rietveld全譜圖擬閤法
정량분석%유리이양화규%비정체%X사선연사%Rietveld전보도의합법
应用X射线衍射技术与Rietveld全谱图拟合法测定了粉尘中游离SiO2的含量,并同时得到粉尘样品中其它晶相和非晶相物质的含量.实验采用日本理学D/MAX 2500V型X射线衍射仪,CuKα辐射带石墨单色器,管电压44 kV,管电流150 mA,步进扫描收集衍射数据,经Jade 5.0软件定性分析, DBWS9807a软件定量分析,结果为:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%.SiO2在各样品中的含量为15.61%～37.83%;加标回收率为102.6%～119.9%;重现性测定相对标准偏差(RSD)为1.14%.结果表明:用Rietveld全谱图拟合法测定粉尘中游离SiO2的含量是一种快速、准确、方便的方法.
應用X射線衍射技術與Rietveld全譜圖擬閤法測定瞭粉塵中遊離SiO2的含量,併同時得到粉塵樣品中其它晶相和非晶相物質的含量.實驗採用日本理學D/MAX 2500V型X射線衍射儀,CuKα輻射帶石墨單色器,管電壓44 kV,管電流150 mA,步進掃描收集衍射數據,經Jade 5.0軟件定性分析, DBWS9807a軟件定量分析,結果為:Rp平均等于11.29%,Rwp平均等于13.74%,Rexpected平均等于4.04%.SiO2在各樣品中的含量為15.61%～37.83%;加標迴收率為102.6%～119.9%;重現性測定相對標準偏差(RSD)為1.14%.結果錶明:用Rietveld全譜圖擬閤法測定粉塵中遊離SiO2的含量是一種快速、準確、方便的方法.
응용X사선연사기술여Rietveld전보도의합법측정료분진중유리SiO2적함량,병동시득도분진양품중기타정상화비정상물질적함량.실험채용일본이학D/MAX 2500V형X사선연사의,CuKα복사대석묵단색기,관전압44 kV,관전류150 mA,보진소묘수집연사수거,경Jade 5.0연건정성분석, DBWS9807a연건정량분석,결과위:Rp평균등우11.29%,Rwp평균등우13.74%,Rexpected평균등우4.04%.SiO2재각양품중적함량위15.61%～37.83%;가표회수솔위102.6%～119.9%;중현성측정상대표준편차(RSD)위1.14%.결과표명:용Rietveld전보도의합법측정분진중유리SiO2적함량시일충쾌속、준학、방편적방법.
