真空
真空
진공
VACUUM
2008年
1期
68-70
,共3页
李全友%姚宁%张兵临%葛宝全%王执乾
李全友%姚寧%張兵臨%葛寶全%王執乾
리전우%요저%장병림%갈보전%왕집건
室温%ITO膜%直流磁控溅射%电阻率%透光率
室溫%ITO膜%直流磁控濺射%電阻率%透光率
실온%ITO막%직류자공천사%전조솔%투광솔
室温条件下,在玻璃衬底上,采用直流磁控溅射法制备了ITO膜.研究了溅射压强,氧流量和溅射功率等工艺参数对薄膜光电性能的影响.结果表明:当Ar流量为44.2 sccm和溅射时间20 min等参数不变时,溅射气压0.7 Pa,氧流量0.62 sccm和溅射功率130 W为最佳工艺条件.并得到了电阻率5.02×10-4 Ω·cm,在可见光区平均透过率80%以上ITO薄膜.
室溫條件下,在玻璃襯底上,採用直流磁控濺射法製備瞭ITO膜.研究瞭濺射壓彊,氧流量和濺射功率等工藝參數對薄膜光電性能的影響.結果錶明:噹Ar流量為44.2 sccm和濺射時間20 min等參數不變時,濺射氣壓0.7 Pa,氧流量0.62 sccm和濺射功率130 W為最佳工藝條件.併得到瞭電阻率5.02×10-4 Ω·cm,在可見光區平均透過率80%以上ITO薄膜.
실온조건하,재파리츤저상,채용직류자공천사법제비료ITO막.연구료천사압강,양류량화천사공솔등공예삼수대박막광전성능적영향.결과표명:당Ar류량위44.2 sccm화천사시간20 min등삼수불변시,천사기압0.7 Pa,양류량0.62 sccm화천사공솔130 W위최가공예조건.병득도료전조솔5.02×10-4 Ω·cm,재가견광구평균투과솔80%이상ITO박막.
