微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2009年
11期
695-699
,共5页
闫宝华%檀柏梅%刘玉岭%孙增标%申晓宁%张研
閆寶華%檀柏梅%劉玉嶺%孫增標%申曉寧%張研
염보화%단백매%류옥령%손증표%신효저%장연
单晶硅%太阳电池%电化学清洗%绒面%各向异性腐蚀%转换效率
單晶硅%太暘電池%電化學清洗%絨麵%各嚮異性腐蝕%轉換效率
단정규%태양전지%전화학청세%융면%각향이성부식%전환효솔
通过实验分析Na2SiO3和Na3PO4混合溶液对(100)晶向的单晶Si片的各向异性腐蚀过程,探讨了Na2SiO3溶液和Na2SiO3、Na,PO4混合溶液对表面织构化的影响机制,并且对制绒前Si片的电化学清洗过程和混合溶液的反应温度和反应时间等参数的变化对金字塔绒面微观形貌的影响做了分析.最终通过大量实验得到,用质量分数为4%的Na2SiO3和2%的Na3PO4混合溶液在78℃腐蚀60 min,单晶Si片表面可获得最佳反射率为11.98%的减反射绒面.单晶Si片表面的反射率优于单独使用Na2SiO3溶液腐蚀,更重要的是制得了很好的均匀性表面.
通過實驗分析Na2SiO3和Na3PO4混閤溶液對(100)晶嚮的單晶Si片的各嚮異性腐蝕過程,探討瞭Na2SiO3溶液和Na2SiO3、Na,PO4混閤溶液對錶麵織構化的影響機製,併且對製絨前Si片的電化學清洗過程和混閤溶液的反應溫度和反應時間等參數的變化對金字塔絨麵微觀形貌的影響做瞭分析.最終通過大量實驗得到,用質量分數為4%的Na2SiO3和2%的Na3PO4混閤溶液在78℃腐蝕60 min,單晶Si片錶麵可穫得最佳反射率為11.98%的減反射絨麵.單晶Si片錶麵的反射率優于單獨使用Na2SiO3溶液腐蝕,更重要的是製得瞭很好的均勻性錶麵.
통과실험분석Na2SiO3화Na3PO4혼합용액대(100)정향적단정Si편적각향이성부식과정,탐토료Na2SiO3용액화Na2SiO3、Na,PO4혼합용액대표면직구화적영향궤제,병차대제융전Si편적전화학청세과정화혼합용액적반응온도화반응시간등삼수적변화대금자탑융면미관형모적영향주료분석.최종통과대량실험득도,용질량분수위4%적Na2SiO3화2%적Na3PO4혼합용액재78℃부식60 min,단정Si편표면가획득최가반사솔위11.98%적감반사융면.단정Si편표면적반사솔우우단독사용Na2SiO3용액부식,경중요적시제득료흔호적균균성표면.
