电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2005年
12期
4-7
,共4页
梁军%田军%周金芳%刘维民%徐洮
樑軍%田軍%週金芳%劉維民%徐洮
량군%전군%주금방%류유민%서조
微弧氧化%镁合金%磷酸盐-氢氧化钾电解液%显微硬度%耐蚀性
微弧氧化%鎂閤金%燐痠鹽-氫氧化鉀電解液%顯微硬度%耐蝕性
미호양화%미합금%린산염-경양화갑전해액%현미경도%내식성
在磷酸盐-氢氧化钾电解液中,利用微弧氧化技术在AM60B镁合金表面获得了氧化膜层.截面光学显微形貌与扫描电镜照片显示,该氧化膜层为一连续的整体,氧化膜与基体存在清晰的界面,界面附近无孔洞、裂纹等缺陷,而在氧化膜表面则分布着大量的微孔,并有微裂纹存在;EDS成分分析表明,膜层主要由Mg、Al元素(来自于基体)和P、O元素(来自于电解液)组成;X-射线衍射实验证明了微弧氧化处理在镁合金表面形成了一层以MgO为主要组成的氧化膜,但未检测到P的存在,由此说明P以非晶态的形成存在于膜层中.膜层截面硬度分布曲线和耐蚀性实验表明,膜层硬度随着膜层与界面距离的增加起初增大,在距离界面10 μm处达到最大值为580 HV,之后逐渐降低;基体与微弧氧化膜层在w(NaCl)=3.5% NaCl溶液中的极化腐蚀电流密度分别为198 A/cm2和3.54 A/cm2,说明微弧氧化膜的生成使镁合金的耐蚀性能明显增强.
在燐痠鹽-氫氧化鉀電解液中,利用微弧氧化技術在AM60B鎂閤金錶麵穫得瞭氧化膜層.截麵光學顯微形貌與掃描電鏡照片顯示,該氧化膜層為一連續的整體,氧化膜與基體存在清晰的界麵,界麵附近無孔洞、裂紋等缺陷,而在氧化膜錶麵則分佈著大量的微孔,併有微裂紋存在;EDS成分分析錶明,膜層主要由Mg、Al元素(來自于基體)和P、O元素(來自于電解液)組成;X-射線衍射實驗證明瞭微弧氧化處理在鎂閤金錶麵形成瞭一層以MgO為主要組成的氧化膜,但未檢測到P的存在,由此說明P以非晶態的形成存在于膜層中.膜層截麵硬度分佈麯線和耐蝕性實驗錶明,膜層硬度隨著膜層與界麵距離的增加起初增大,在距離界麵10 μm處達到最大值為580 HV,之後逐漸降低;基體與微弧氧化膜層在w(NaCl)=3.5% NaCl溶液中的極化腐蝕電流密度分彆為198 A/cm2和3.54 A/cm2,說明微弧氧化膜的生成使鎂閤金的耐蝕性能明顯增彊.
재린산염-경양화갑전해액중,이용미호양화기술재AM60B미합금표면획득료양화막층.절면광학현미형모여소묘전경조편현시,해양화막층위일련속적정체,양화막여기체존재청석적계면,계면부근무공동、렬문등결함,이재양화막표면칙분포착대량적미공,병유미렬문존재;EDS성분분석표명,막층주요유Mg、Al원소(래자우기체)화P、O원소(래자우전해액)조성;X-사선연사실험증명료미호양화처리재미합금표면형성료일층이MgO위주요조성적양화막,단미검측도P적존재,유차설명P이비정태적형성존재우막층중.막층절면경도분포곡선화내식성실험표명,막층경도수착막층여계면거리적증가기초증대,재거리계면10 μm처체도최대치위580 HV,지후축점강저;기체여미호양화막층재w(NaCl)=3.5% NaCl용액중적겁화부식전류밀도분별위198 A/cm2화3.54 A/cm2,설명미호양화막적생성사미합금적내식성능명현증강.