真空
真空
진공
VACUUM
2007年
5期
22-24
,共3页
磁控溅射%ITO膜%膜厚%电阻率%透光率
磁控濺射%ITO膜%膜厚%電阻率%透光率
자공천사%ITO막%막후%전조솔%투광솔
本文对所研究的直流磁控溅射法制备的ITO透明导电薄膜,采用X射线衍射技术进行了膜层晶体结构与薄膜厚度关系的分析, 并测量了薄膜电阻率及透光率随薄膜厚度的变化情况.实验结果表明,当控制薄膜厚度达70 nm以上时,可获得结晶性好、电阻率低和透光率高的ITO透明导电薄膜,所镀制的ITO膜电阻率已降到1.8×10-4 Ωcm,可见光透过率达80%以上.最后还对所镀制的ITO透明导电薄膜的质量指标作了评估.
本文對所研究的直流磁控濺射法製備的ITO透明導電薄膜,採用X射線衍射技術進行瞭膜層晶體結構與薄膜厚度關繫的分析, 併測量瞭薄膜電阻率及透光率隨薄膜厚度的變化情況.實驗結果錶明,噹控製薄膜厚度達70 nm以上時,可穫得結晶性好、電阻率低和透光率高的ITO透明導電薄膜,所鍍製的ITO膜電阻率已降到1.8×10-4 Ωcm,可見光透過率達80%以上.最後還對所鍍製的ITO透明導電薄膜的質量指標作瞭評估.
본문대소연구적직류자공천사법제비적ITO투명도전박막,채용X사선연사기술진행료막층정체결구여박막후도관계적분석, 병측량료박막전조솔급투광솔수박막후도적변화정황.실험결과표명,당공제박막후도체70 nm이상시,가획득결정성호、전조솔저화투광솔고적ITO투명도전박막,소도제적ITO막전조솔이강도1.8×10-4 Ωcm,가견광투과솔체80%이상.최후환대소도제적ITO투명도전박막적질량지표작료평고.
