强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2009年
3期
350-354
,共5页
刘兴华%吴卫东%何智兵%张宝玲%王红斌%蔡从中
劉興華%吳衛東%何智兵%張寶玲%王紅斌%蔡從中
류흥화%오위동%하지병%장보령%왕홍빈%채종중
a-C:H薄膜%化学键%透过率%光学带隙%低压等离子体增强化学气相沉积法
a-C:H薄膜%化學鍵%透過率%光學帶隙%低壓等離子體增彊化學氣相沉積法
a-C:H박막%화학건%투과솔%광학대극%저압등리자체증강화학기상침적법
选用体积分数为99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)为工作气体,利用低压等离子体增强化学气相沉积法制备了a-C;H薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪和X射线光电子能谱对薄膜化学键和电子结构进行分析,并结合高斯分峰拟合分析了薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数.结果表明:薄膜中氢含量较高,主要以sp3C-H形式存在;工作气压越高,制备的薄膜中C=C键含量越少,薄膜中sp3/sp2杂化键比值和sp3C杂化键分数增加,薄膜稳定性提高.应用UV-VIS光谱仪,获得了波长在400～1 000 nm范围内薄膜的光吸收特性,结果显示:a-C:H薄膜透过率可达98%.光学常数公式计算得到工作压强为4～14 Pa时光学带隙在2.66～2.76之间,并均随着工作气压的升高而增大.结果表明,随工作气压的升高,薄膜内sp3键减小,从而促使透过率、光学带隙增大.
選用體積分數為99.999 9%的H2及反式-2-丁烯(T2B)為工作氣體,利用低壓等離子體增彊化學氣相沉積法製備瞭a-C;H薄膜.利用傅裏葉變換紅外光譜儀和X射線光電子能譜對薄膜化學鍵和電子結構進行分析,併結閤高斯分峰擬閤分析瞭薄膜中sp3/sp2雜化鍵比值和sp3C雜化鍵分數.結果錶明:薄膜中氫含量較高,主要以sp3C-H形式存在;工作氣壓越高,製備的薄膜中C=C鍵含量越少,薄膜中sp3/sp2雜化鍵比值和sp3C雜化鍵分數增加,薄膜穩定性提高.應用UV-VIS光譜儀,穫得瞭波長在400～1 000 nm範圍內薄膜的光吸收特性,結果顯示:a-C:H薄膜透過率可達98%.光學常數公式計算得到工作壓彊為4～14 Pa時光學帶隙在2.66～2.76之間,併均隨著工作氣壓的升高而增大.結果錶明,隨工作氣壓的升高,薄膜內sp3鍵減小,從而促使透過率、光學帶隙增大.
선용체적분수위99.999 9%적H2급반식-2-정희(T2B)위공작기체,이용저압등리자체증강화학기상침적법제비료a-C;H박막.이용부리협변환홍외광보의화X사선광전자능보대박막화학건화전자결구진행분석,병결합고사분봉의합분석료박막중sp3/sp2잡화건비치화sp3C잡화건분수.결과표명:박막중경함량교고,주요이sp3C-H형식존재;공작기압월고,제비적박막중C=C건함량월소,박막중sp3/sp2잡화건비치화sp3C잡화건분수증가,박막은정성제고.응용UV-VIS광보의,획득료파장재400～1 000 nm범위내박막적광흡수특성,결과현시:a-C:H박막투과솔가체98%.광학상수공식계산득도공작압강위4～14 Pa시광학대극재2.66～2.76지간,병균수착공작기압적승고이증대.결과표명,수공작기압적승고,박막내sp3건감소,종이촉사투과솔、광학대극증대.
