微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2007年
5期
682-684
,共3页
徐岚%刘嵘侃%陈亚兰%贾新章
徐嵐%劉嶸侃%陳亞蘭%賈新章
서람%류영간%진아란%가신장
统计过程控制%质量控制%控制图%嵌套回归
統計過程控製%質量控製%控製圖%嵌套迴歸
통계과정공제%질량공제%공제도%감투회귀
统计过程控制(SPC)是一种有效的质量管理工具,但由于半导体制造工艺过程的复杂性,常规的SPC模型已经不能对工艺过程状态进行有效的监控.着重论述了SPC在多品种、小批量半导体生产线上的实际应用;根据工艺特点,选取正确的SPC模型,通过采集数据、绘制控制图和数据分析,对图中异常点采用5M1E进行分析,既可及时发现工艺异常并进行纠正,又可排除非工艺原因造成的异常.该方法对提高工艺稳定性和产品质量有着非常重要的意义.
統計過程控製(SPC)是一種有效的質量管理工具,但由于半導體製造工藝過程的複雜性,常規的SPC模型已經不能對工藝過程狀態進行有效的鑑控.著重論述瞭SPC在多品種、小批量半導體生產線上的實際應用;根據工藝特點,選取正確的SPC模型,通過採集數據、繪製控製圖和數據分析,對圖中異常點採用5M1E進行分析,既可及時髮現工藝異常併進行糾正,又可排除非工藝原因造成的異常.該方法對提高工藝穩定性和產品質量有著非常重要的意義.
통계과정공제(SPC)시일충유효적질량관리공구,단유우반도체제조공예과정적복잡성,상규적SPC모형이경불능대공예과정상태진행유효적감공.착중논술료SPC재다품충、소비량반도체생산선상적실제응용;근거공예특점,선취정학적SPC모형,통과채집수거、회제공제도화수거분석,대도중이상점채용5M1E진행분석,기가급시발현공예이상병진행규정,우가배제비공예원인조성적이상.해방법대제고공예은정성화산품질량유착비상중요적의의.
