存储器用铁电薄膜及电极材料的研究
존저기용철전박막급전겁재료적연구
Ferroelectric thin films and electrodes for random access memories
  • 万方数据
    物理 물리

    2007年 1期 20-25 ,共6页

    刘治国%李爱东%吴迪%朱信华%闵乃本

    류치국%리애동%오적%주신화%민내본

    铁电薄膜%自发极化%导电氧化物电极%疲劳特性 鐵電薄膜%自髮極化%導電氧化物電極%疲勞特性
    철전박막%자발겁화%도전양화물전겁%피로특성
    铁电体独特的自发电极化双稳性质和非线性光学性质使其在光电子器件中得到广泛应用.为了实现器件的小型化和与微电子、光电子工艺兼容,铁电薄膜已成为一个研究热点.自发电极化的大小和取向以及外电场、缺陷和铁电薄膜/电极界面与自发电极化的交互作用决定了铁电薄膜的性质和服役行为.文章以铁电存储器和光电子器件应用为背景,选择了具有重大应用前景的Bi4-xLaxTi3O12(BLT)、SrBi2Ta2O9(SBT)、PbZrxTi1-xO3(PZT)和LiNbO3(LN)铁电薄膜以及相关的 La(Sr,Co)O3 (LSCO) 和LaNiO3(LNO)等电极材料为研究对象,研究了缺陷电荷和电畴的交互作用和它们在交变外电场中的动力学行为,探明了铁电薄膜疲劳现象的物理本质;从晶格结构与缺陷的观察研究入手,探索了材料铁电性质的起源和优化材料铁电性质的途径;从铁电薄膜/电极界面结构与性质的研究入手,寻找更有效、更稳定的电极材料与结构,从而为器件应用打下了基础;在研究外电场对铁电薄膜生长机制影响的基础上,找到了利用外电场调控铁电薄膜结构的新途径,发展了新的、与半导体器件和光电子器件工艺兼容的制膜方法.
    철전체독특적자발전겁화쌍은성질화비선성광학성질사기재광전자기건중득도엄범응용.위료실현기건적소형화화여미전자、광전자공예겸용,철전박막이성위일개연구열점.자발전겁화적대소화취향이급외전장、결함화철전박막/전겁계면여자발전겁화적교호작용결정료철전박막적성질화복역행위.문장이철전존저기화광전자기건응용위배경,선택료구유중대응용전경적Bi4-xLaxTi3O12(BLT)、SrBi2Ta2O9(SBT)、PbZrxTi1-xO3(PZT)화LiNbO3(LN)철전박막이급상관적 La(Sr,Co)O3 (LSCO) 화LaNiO3(LNO)등전겁재료위연구대상,연구료결함전하화전주적교호작용화타문재교변외전장중적동역학행위,탐명료철전박막피로현상적물리본질;종정격결구여결함적관찰연구입수,탐색료재료철전성질적기원화우화재료철전성질적도경;종철전박막/전겁계면결구여성질적연구입수,심조경유효、경은정적전겁재료여결구,종이위기건응용타하료기출;재연구외전장대철전박막생장궤제영향적기출상,조도료이용외전장조공철전박막결구적신도경,발전료신적、여반도체기건화광전자기건공예겸용적제막방법.
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