低压反应离子镀制备Ge1-xCx薄膜的硬度研究
저압반응리자도제비Ge1-xCx박막적경도연구
Study hardness of Ge1-xCx coatings prepared by RLVIP Technique
  • 万方数据
    光学仪器 광학의기
    OPTICAL INSTRUMENTS
    2006年 4期 79-82 ,共4页

    王彤彤%高劲松%王笑夷%宋琦%陈红%郑宣明%申振峰%单兆会%凌伟

    왕동동%고경송%왕소이%송기%진홍%정선명%신진봉%단조회%릉위

    Ge1-xCx%硬度%低压反应离子镀(RLVIP) Ge1-xCx%硬度%低壓反應離子鍍(RLVIP)
    Ge1-xCx%경도%저압반응리자도(RLVIP)
    应用低压反应离子镀的薄膜制备方法在Ge基底上沉积了Ge1-xCx薄膜,随着沉积速度在0.1nm/s～0.9nm/s之间变化,Ge1-xCx薄膜的硬度在2.12 GPa～11.066 GPa之间可变,当沉积速率为0.9nm/s时,Ge1-xCx薄膜最大硬度为11.066 GPa.XRD测试结果表明,沉积的Ge1-xCx薄膜均为无定形结构.对薄膜稳定性和牢固度的测试表明,制备的Ge1-xCx薄膜在具有较高的硬度的同时,也有良好的性能.
    응용저압반응리자도적박막제비방법재Ge기저상침적료Ge1-xCx박막,수착침적속도재0.1nm/s～0.9nm/s지간변화,Ge1-xCx박막적경도재2.12 GPa～11.066 GPa지간가변,당침적속솔위0.9nm/s시,Ge1-xCx박막최대경도위11.066 GPa.XRD측시결과표명,침적적Ge1-xCx박막균위무정형결구.대박막은정성화뢰고도적측시표명,제비적Ge1-xCx박막재구유교고적경도적동시,야유량호적성능.
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