化工学报
化工學報
화공학보
JOURNAL OF CHEMICAL INDUSY AND ENGINEERING (CHINA)
2007年
9期
2300-2305
,共6页
廖树帜%张淳%何晶%蒋登辉%张邦维
廖樹幟%張淳%何晶%蔣登輝%張邦維
료수치%장순%하정%장등휘%장방유
电沉积%化学沉积%纳米钴硼合金%非晶态%沉积速率
電沉積%化學沉積%納米鈷硼閤金%非晶態%沉積速率
전침적%화학침적%납미고붕합금%비정태%침적속솔
以硫酸钴、硼氢化钠为主要原料,对电沉积和化学沉积Co-B纳米合金功能膜进行比较,发现尽管电沉积较化学沉积的速度快,但各影响因素和变化规律是一致的.pH值增大和温度的升高会加快沉积速率,络合剂浓度增大则会降低沉积速率,增加硫酸钴、硼氢化钠的浓度都会加快沉积速率,但用化学法沉积时,当硫酸钴、硼氢化钠的浓度超过最大值时,沉积速率反而下降.XRD结果表明,两种方法制备的Co-B纳米合金在镀态下都是非晶态,其结构并不受沉积方法的影响,SEM、STM和AFM观察发现,非晶膜镀层是由纳米相微粒构成微米级的二次颗粒,二次颗粒堆砌形成薄膜.化学沉积得到的颗粒相对电沉积得到的要小一些,两种方法得到的最大颗粒都不超过3 μm.
以硫痠鈷、硼氫化鈉為主要原料,對電沉積和化學沉積Co-B納米閤金功能膜進行比較,髮現儘管電沉積較化學沉積的速度快,但各影響因素和變化規律是一緻的.pH值增大和溫度的升高會加快沉積速率,絡閤劑濃度增大則會降低沉積速率,增加硫痠鈷、硼氫化鈉的濃度都會加快沉積速率,但用化學法沉積時,噹硫痠鈷、硼氫化鈉的濃度超過最大值時,沉積速率反而下降.XRD結果錶明,兩種方法製備的Co-B納米閤金在鍍態下都是非晶態,其結構併不受沉積方法的影響,SEM、STM和AFM觀察髮現,非晶膜鍍層是由納米相微粒構成微米級的二次顆粒,二次顆粒堆砌形成薄膜.化學沉積得到的顆粒相對電沉積得到的要小一些,兩種方法得到的最大顆粒都不超過3 μm.
이류산고、붕경화납위주요원료,대전침적화화학침적Co-B납미합금공능막진행비교,발현진관전침적교화학침적적속도쾌,단각영향인소화변화규률시일치적.pH치증대화온도적승고회가쾌침적속솔,락합제농도증대칙회강저침적속솔,증가류산고、붕경화납적농도도회가쾌침적속솔,단용화학법침적시,당류산고、붕경화납적농도초과최대치시,침적속솔반이하강.XRD결과표명,량충방법제비적Co-B납미합금재도태하도시비정태,기결구병불수침적방법적영향,SEM、STM화AFM관찰발현,비정막도층시유납미상미립구성미미급적이차과립,이차과립퇴체형성박막.화학침적득도적과립상대전침적득도적요소일사,량충방법득도적최대과립도불초과3 μm.