太阳能学报
太暘能學報
태양능학보
ACTA ENERGIAE SOLARIS SINICA
2008年
11期
1344-1347
,共4页
徐征%贾晓昀%赵谡玲%张福俊%唐煜%周春兰%王文静
徐徵%賈曉昀%趙謖玲%張福俊%唐煜%週春蘭%王文靜
서정%가효윤%조속령%장복준%당욱%주춘란%왕문정
射频磁控反应溅射%氮化硅薄膜%光学特性
射頻磁控反應濺射%氮化硅薄膜%光學特性
사빈자공반응천사%담화규박막%광학특성
以石英玻璃和抛光硅片做为衬底材料,采用射频磁控反应溅射法,通过改变Ar/N2流量比得到了一系列氮化硅薄膜.用分光光度计对薄膜的光学特性进行了表征;X射线光电子能谱(XPS)表明薄膜中出现了Si-N的键合结构;原子力显微镜(AFM)图显示了在抛光硅片上制备出的薄膜比较平整、致密.实验结果表明:纯N2条件下制备的薄膜比使用Ar和N2混合气体条件下制备的薄膜中的SiNx含量要低;在混合气体参与的条件下,随着氮气流量的增加,薄膜中出现了微孔,缺陷态增加,并对微孔的形成机制进行了解释.
以石英玻璃和拋光硅片做為襯底材料,採用射頻磁控反應濺射法,通過改變Ar/N2流量比得到瞭一繫列氮化硅薄膜.用分光光度計對薄膜的光學特性進行瞭錶徵;X射線光電子能譜(XPS)錶明薄膜中齣現瞭Si-N的鍵閤結構;原子力顯微鏡(AFM)圖顯示瞭在拋光硅片上製備齣的薄膜比較平整、緻密.實驗結果錶明:純N2條件下製備的薄膜比使用Ar和N2混閤氣體條件下製備的薄膜中的SiNx含量要低;在混閤氣體參與的條件下,隨著氮氣流量的增加,薄膜中齣現瞭微孔,缺陷態增加,併對微孔的形成機製進行瞭解釋.
이석영파리화포광규편주위츤저재료,채용사빈자공반응천사법,통과개변Ar/N2류량비득도료일계렬담화규박막.용분광광도계대박막적광학특성진행료표정;X사선광전자능보(XPS)표명박막중출현료Si-N적건합결구;원자력현미경(AFM)도현시료재포광규편상제비출적박막비교평정、치밀.실험결과표명:순N2조건하제비적박막비사용Ar화N2혼합기체조건하제비적박막중적SiNx함량요저;재혼합기체삼여적조건하,수착담기류량적증가,박막중출현료미공,결함태증가,병대미공적형성궤제진행료해석.
