微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2007年
11期
1000-1003
,共4页
多孔氧化铝膜%形成机理%结构类型%模板%二次阳极氧化法
多孔氧化鋁膜%形成機理%結構類型%模闆%二次暘極氧化法
다공양화려막%형성궤리%결구류형%모판%이차양겁양화법
以多孔阳极氧化铝膜为模板制备纳米结构材料具有独特的优越性,得到了广泛的关注.介绍了多孔阳极氧化铝膜的形成机理、结构类型和在草酸溶液中制备多孔氧化铝模板的工艺.在本实验中,使用高纯铝片(99.99%)和0.3 mol/L浓度的草酸,利用电化学二次阳极氧化法制备出多孔阳极氧化铝模板,用SEM对其形貌进行了观测,得到的模板孔径在50～70 nm,孔间距约为100 nm.
以多孔暘極氧化鋁膜為模闆製備納米結構材料具有獨特的優越性,得到瞭廣汎的關註.介紹瞭多孔暘極氧化鋁膜的形成機理、結構類型和在草痠溶液中製備多孔氧化鋁模闆的工藝.在本實驗中,使用高純鋁片(99.99%)和0.3 mol/L濃度的草痠,利用電化學二次暘極氧化法製備齣多孔暘極氧化鋁模闆,用SEM對其形貌進行瞭觀測,得到的模闆孔徑在50～70 nm,孔間距約為100 nm.
이다공양겁양화려막위모판제비납미결구재료구유독특적우월성,득도료엄범적관주.개소료다공양겁양화려막적형성궤리、결구류형화재초산용액중제비다공양화려모판적공예.재본실험중,사용고순려편(99.99%)화0.3 mol/L농도적초산,이용전화학이차양겁양화법제비출다공양겁양화려모판,용SEM대기형모진행료관측,득도적모판공경재50～70 nm,공간거약위100 nm.
