材料导报
材料導報
재료도보
MATERIALS REVIEW
2003年
6期
34-36
,共3页
半导体制造业%157nm紫外光刻技术%CaF2晶体%双折射
半導體製造業%157nm紫外光刻技術%CaF2晶體%雙摺射
반도체제조업%157nm자외광각기술%CaF2정체%쌍절사
介绍了半导体制造业专用设备,紫外光刻设备所使用的光学材料.介绍了该材料的选择,研究现状,该材料制造工艺技术的创新,以及与材料制造技术相配套的技术发展状况,同时分析了国际市场现状及该技术的发展趋势.
介紹瞭半導體製造業專用設備,紫外光刻設備所使用的光學材料.介紹瞭該材料的選擇,研究現狀,該材料製造工藝技術的創新,以及與材料製造技術相配套的技術髮展狀況,同時分析瞭國際市場現狀及該技術的髮展趨勢.
개소료반도체제조업전용설비,자외광각설비소사용적광학재료.개소료해재료적선택,연구현상,해재료제조공예기술적창신,이급여재료제조기술상배투적기술발전상황,동시분석료국제시장현상급해기술적발전추세.
