口腔医学研究
口腔醫學研究
구강의학연구
JOURNAL OF ORAL SCIENCE RESEARCH
2003年
3期
196-198
,共3页
杨军%邵方%王碧江%李明春%冉光亮
楊軍%邵方%王碧江%李明春%冉光亮
양군%소방%왕벽강%리명춘%염광량
龋齿%腐蚀%电化学
齲齒%腐蝕%電化學
우치%부식%전화학
目的:研究人工龋形成的电化学腐蚀机理.方法:采用循环伏安法、失重法观察牙片在K2SO4溶液中的氧化还原行为及在KCl和K2SO4介质中恒电位腐蚀情况,并监测电解液氢离子浓度的变化情况.结果:在0.0V～2.5V电位范围内,牙片电极与石墨电极具有波形相似的循环伏安曲线;在KCl和K2SO4介质中牙片的腐蚀速度无显著差异;2.0V恒电位腐蚀牙片8h后, 阳极池本体溶液pH值为3.87,阴极池pH值为10.65.结论:在外电场作用下,牙片的阳极腐蚀与介质无关;电化学人工龋形成的主要决定因素是牙齿发生酸溶.
目的:研究人工齲形成的電化學腐蝕機理.方法:採用循環伏安法、失重法觀察牙片在K2SO4溶液中的氧化還原行為及在KCl和K2SO4介質中恆電位腐蝕情況,併鑑測電解液氫離子濃度的變化情況.結果:在0.0V～2.5V電位範圍內,牙片電極與石墨電極具有波形相似的循環伏安麯線;在KCl和K2SO4介質中牙片的腐蝕速度無顯著差異;2.0V恆電位腐蝕牙片8h後, 暘極池本體溶液pH值為3.87,陰極池pH值為10.65.結論:在外電場作用下,牙片的暘極腐蝕與介質無關;電化學人工齲形成的主要決定因素是牙齒髮生痠溶.
목적:연구인공우형성적전화학부식궤리.방법:채용순배복안법、실중법관찰아편재K2SO4용액중적양화환원행위급재KCl화K2SO4개질중항전위부식정황,병감측전해액경리자농도적변화정황.결과:재0.0V～2.5V전위범위내,아편전겁여석묵전겁구유파형상사적순배복안곡선;재KCl화K2SO4개질중아편적부식속도무현저차이;2.0V항전위부식아편8h후, 양겁지본체용액pH치위3.87,음겁지pH치위10.65.결론:재외전장작용하,아편적양겁부식여개질무관;전화학인공우형성적주요결정인소시아치발생산용.
