微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2003年
2期
113-117
,共5页
汤炜%林争辉%朱以南%肖世红
湯煒%林爭輝%硃以南%肖世紅
탕위%림쟁휘%주이남%초세홍
VLSI%LVS%版图验证%Dracula语言%LDMOS
VLSI%LVS%版圖驗證%Dracula語言%LDMOS
VLSI%LVS%판도험증%Dracula어언%LDMOS
版图验证是集成电路设计的瓶颈之一.文章全面系统地阐述了超大规模集成电路LVS版图验证的原理、方法和基本的流程,着重介绍了基于Dracula开发的CMOS、Bipolar和ABCD(Advanced Bipolar CMOS DMOS)工艺的LVS命令文件,在解决以上工艺的电路LVS的过程中,取得了令人满意的效果.
版圖驗證是集成電路設計的瓶頸之一.文章全麵繫統地闡述瞭超大規模集成電路LVS版圖驗證的原理、方法和基本的流程,著重介紹瞭基于Dracula開髮的CMOS、Bipolar和ABCD(Advanced Bipolar CMOS DMOS)工藝的LVS命令文件,在解決以上工藝的電路LVS的過程中,取得瞭令人滿意的效果.
판도험증시집성전로설계적병경지일.문장전면계통지천술료초대규모집성전로LVS판도험증적원리、방법화기본적류정,착중개소료기우Dracula개발적CMOS、Bipolar화ABCD(Advanced Bipolar CMOS DMOS)공예적LVS명령문건,재해결이상공예적전로LVS적과정중,취득료령인만의적효과.
