太阳能学报
太暘能學報
태양능학보
ACTA ENERGIAE SOLARIS SINICA
2002年
5期
571-574
,共4页
减反射层%太阳光谱选择性吸收涂层%热稳定性
減反射層%太暘光譜選擇性吸收塗層%熱穩定性
감반사층%태양광보선택성흡수도층%열은정성
利用铝合金靶(LY13)*在氩气和空气气氛中进行直流反应溅射,可以得到渐变型或干涉型太阳光谱选择性吸收涂层.当氩气与空气之比大于0.14～0.16时得到由AlxOy和AlNx组成的纯介质膜(AlxOy-AlNx)其折射率(n)和消光系数(k)分别为1.65～1.88和0.002～0.005.将AlxOy-AlNx膜和纯AlN膜作为减反射膜分别沉积在具有相同吸收层的样品上,在真空压强4.5×10-3Pa,400℃下烘烤30min,AlxOy-AlNx比AlN更稳定.在高硼硅玻璃和抛光不锈钢上,沉积了厚度约为250nm的吸收涂层(AlxOy-AlNx-Al)和60nm厚的减反射层(AlxOy-AlNx)构成太阳光谱选择性表面.真空中400℃、500℃、600℃,烘烤30min后,其α/ε反而由11.4升高至14.46;550℃烘烤40h与450℃烘烤10h相比仅仅发射率稍微有点升高,其吸收比不变.试样在空气中350℃烘烤10h与真空中450℃烘烤10h的结果相当接近,它们的α/ε分别是13.0和13.29.
利用鋁閤金靶(LY13)*在氬氣和空氣氣氛中進行直流反應濺射,可以得到漸變型或榦涉型太暘光譜選擇性吸收塗層.噹氬氣與空氣之比大于0.14～0.16時得到由AlxOy和AlNx組成的純介質膜(AlxOy-AlNx)其摺射率(n)和消光繫數(k)分彆為1.65～1.88和0.002～0.005.將AlxOy-AlNx膜和純AlN膜作為減反射膜分彆沉積在具有相同吸收層的樣品上,在真空壓彊4.5×10-3Pa,400℃下烘烤30min,AlxOy-AlNx比AlN更穩定.在高硼硅玻璃和拋光不鏽鋼上,沉積瞭厚度約為250nm的吸收塗層(AlxOy-AlNx-Al)和60nm厚的減反射層(AlxOy-AlNx)構成太暘光譜選擇性錶麵.真空中400℃、500℃、600℃,烘烤30min後,其α/ε反而由11.4升高至14.46;550℃烘烤40h與450℃烘烤10h相比僅僅髮射率稍微有點升高,其吸收比不變.試樣在空氣中350℃烘烤10h與真空中450℃烘烤10h的結果相噹接近,它們的α/ε分彆是13.0和13.29.
이용려합금파(LY13)*재아기화공기기분중진행직류반응천사,가이득도점변형혹간섭형태양광보선택성흡수도층.당아기여공기지비대우0.14～0.16시득도유AlxOy화AlNx조성적순개질막(AlxOy-AlNx)기절사솔(n)화소광계수(k)분별위1.65～1.88화0.002～0.005.장AlxOy-AlNx막화순AlN막작위감반사막분별침적재구유상동흡수층적양품상,재진공압강4.5×10-3Pa,400℃하홍고30min,AlxOy-AlNx비AlN경은정.재고붕규파리화포광불수강상,침적료후도약위250nm적흡수도층(AlxOy-AlNx-Al)화60nm후적감반사층(AlxOy-AlNx)구성태양광보선택성표면.진공중400℃、500℃、600℃,홍고30min후,기α/ε반이유11.4승고지14.46;550℃홍고40h여450℃홍고10h상비부부발사솔초미유점승고,기흡수비불변.시양재공기중350℃홍고10h여진공중450℃홍고10h적결과상당접근,타문적α/ε분별시13.0화13.29.
