核动力工程
覈動力工程
핵동력공정
NUCLEAR POWER ENGINEERING
2001年
6期
501-503
,共3页
封向东%祖小涛%王治国%林理彬%李燕伶%黄新泉
封嚮東%祖小濤%王治國%林理彬%李燕伶%黃新泉
봉향동%조소도%왕치국%림리빈%리연령%황신천
钛合金氧化膜%原位AES分析%XPS分析
鈦閤金氧化膜%原位AES分析%XPS分析
태합금양화막%원위AES분석%XPS분석
用X射线衍射仪(XRD)、X射线电子谱仪(XPS)和原位俄歇电子谱(AES)法研究了Ti-Al-V合金在300℃pH9的水中氧化13000h所形成的氧化膜的结构、成分和价态以及其随深度的变化.发现氧化膜是由TiO2、Al2TiO5、Ti3O5、Ti2O3和TiO所组成,并且,氧化膜由表面到基体基本是按以上顺序交迭构成.通过XPS和原位AES分析发现钛合金表面形成稳定的厚约500nm的Ti4+(TiO2)层,随深度的增加出现了Ti3+(Ti3O5、Ti2O3)和Ti2+(TiO),直至基体,氧化膜总厚度约3 000nm.
用X射線衍射儀(XRD)、X射線電子譜儀(XPS)和原位俄歇電子譜(AES)法研究瞭Ti-Al-V閤金在300℃pH9的水中氧化13000h所形成的氧化膜的結構、成分和價態以及其隨深度的變化.髮現氧化膜是由TiO2、Al2TiO5、Ti3O5、Ti2O3和TiO所組成,併且,氧化膜由錶麵到基體基本是按以上順序交迭構成.通過XPS和原位AES分析髮現鈦閤金錶麵形成穩定的厚約500nm的Ti4+(TiO2)層,隨深度的增加齣現瞭Ti3+(Ti3O5、Ti2O3)和Ti2+(TiO),直至基體,氧化膜總厚度約3 000nm.
용X사선연사의(XRD)、X사선전자보의(XPS)화원위아헐전자보(AES)법연구료Ti-Al-V합금재300℃pH9적수중양화13000h소형성적양화막적결구、성분화개태이급기수심도적변화.발현양화막시유TiO2、Al2TiO5、Ti3O5、Ti2O3화TiO소조성,병차,양화막유표면도기체기본시안이상순서교질구성.통과XPS화원위AES분석발현태합금표면형성은정적후약500nm적Ti4+(TiO2)층,수심도적증가출현료Ti3+(Ti3O5、Ti2O3)화Ti2+(TiO),직지기체,양화막총후도약3 000nm.
